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超高纯丙二醇乙醚在半导体产业中应用潜力大 我国自主供应能力有望增强

2026-10-09 17:34      责任编辑:周圆    来源:www.newsijie.com    点击: 次

超高纯丙二醇乙醚在半导体产业中应用潜力大 我国自主供应能力有望增强

  按照行业通用的SEMI纯度等级划分,丙二醇乙醚可分为电子级(SEMI G2至G3)、高纯级(SEMI G4)与超高纯级(SEMI G5)。超高纯丙二醇乙醚在普通电子级产品基础上,对金属杂质与颗粒物指标提出更为严苛的管控要求。依据下游应用场景,超高纯丙二醇乙醚又可分为半导体级、显示面板级以及光刻胶配方级等品类。
 
  丙二醇乙醚,简称PGEE或PE,化学名1-乙氧基-2-丙醇,CAS号1569-02-4,分子式C5H12O2,分子量104.15。该物质为无色透明液体,沸点约132℃,闭杯闪点42℃,25℃下密度约0.9g/cm3,可与水以任意比例互溶,属于属于P系列丙二醇醚类溶剂。
 
  超高纯丙二醇乙醚的生产包含合成与纯化两大阶段。工业制备粗品以环氧丙烷与乙醇的开环加成反应为主;丙二醇和乙醇在催化剂下直接醚化为备选合成路线。纯化环节是制备超高纯产品的核心技术壁垒,一般采用精馏、离子交换树脂处理、膜分离、活性炭吸附等多种工艺多级耦合提纯。
 
  根据新思界产业研究中心发布的《2026-2030年全球及中国超高纯丙二醇乙醚行业研究及十五五规划分析报告》显示,超高纯丙二醇乙醚在半导体制造中具备多场景应用。在光刻工艺中,该产品作为光刻胶配方的稀释溶剂与流平调节剂,常与丙二醇甲醚醋酸酯(PGMEA)按特定比例复配,用以调控体系溶解能力、蒸发速率以及涂覆流平性能。在晶圆清洗工艺中,该产品可用于光刻后晶圆边缘残留的光刻胶去除,以及晶圆背面与边缘漂洗,助力提升生产良率。在显示面板领域,该产品应用于OLED基板清洗,同时作为精密涂布工艺的溶剂组分。除此之外,该产品也可作为醚类溶剂组分,添加至电子工业清洗剂配方中。
 
  2025年4月,华伦新材料(江苏)有限公司与灌云县签约高端专用新材料项目,计划总投资30亿元分两期建设,一期投资18亿元建设年产20万吨高端专用新材料项目,二期投资12亿元建年产5万吨下游产业链延链补链项目;子公司华伦新材料(扬州)有限公司规划建设年产20.7万吨P系列湿电子化学品项目,主要建设内容包括一条丙二醇甲醚(PM)和丙二醇甲醚醋酸酯(PMA)生产线、一条丙二醇乙醚(PE)生产线。
 
  新思界行业分析人士表示,目前我国超高纯丙二醇乙醚供给仍由国际厂商主导,国内企业在超高纯纯化技术与下游客户认证方面仍处在持续推进阶段。随着华伦新材料项目逐步建成投产,叠加国内其他企业在纯化工艺上持续攻关,预计国内超高纯丙二醇乙醚供给能力有望在2028年前后实现规模化输出。
 
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