半导体级过氧化氢主要用于晶圆清洗工序 晶瑞电材为我国代表性厂商

　　半导体级过氧化氢（双氧水）属于电子级过氧化氢中纯度等级最高的品类，化学式为H2O2，主要用于集成电路制造的晶圆清洗、蚀刻、表面处理等核心工序。相较于工业级过氧化氢，半导体级过氧化氢对金属离子、有机污染物与微颗粒的管控标准极为严苛，杂质指标需达到ppb甚至ppt水平。

 

　　我国现行行业标准HG/T 5736-2020《高纯工业品过氧化氢》将高纯过氧化氢分为HP型和UP型，其中UP型主要用于集成电路清洗，细分为UP-1至UP-4四个等级，UP-4级产品的铝、锑、钡等金属离子指标要求达到0.01μg/kg。在《重点新材料首批次应用示范指导目录（2024年版）》中，对5纳米制程用超净高纯半导体级过氧化氢性能要求为：金属离子≤5ppt，阴离子≤30ppb，TOC≤2ppm，硅≤20ppb。

 

　　半导体级过氧化氢的核心应用集中于晶圆清洗工序。在经典RCA清洗工艺中，过氧化氢分别搭配氨水、盐酸配制APM（SC-1）与HPM（SC-2）清洗液，去除晶圆表面颗粒物、金属离子及有机污染物。同时，该材料可作为铜、钨化学机械抛光（CMP）工艺的氧化剂，亦可用于选择性金属蚀刻。在制程后端，半导体级过氧化氢还可作为氧化剂，应用于2.5D与3D先进封装的晶圆清洁及表面改性处理。

 

　　根据新思界产业研究中心发布的《2026-2030年全球及中国半导体级过氧化氢行业研究及十五五规划分析报告》显示，伴随芯片制程由28nm向7nm、5nm乃至2nm持续迭代，市场对过氧化氢纯度的要求呈指数级提升。2025年，全球半导体级过氧化氢市场规模约为6.08亿美元，预计发展到2032年将增长至12.32亿美元，期间复合年均增长率为10.62%。

 

　　在全球范围内，索尔维（Solvay）是重要的半导体级过氧化氢供应商之一，其德国Bernburg工厂生产的INTEROX系列电子级产品，涵盖SEMI G1至G5等级；2025年9月，索尔维镇江基地白天鹅二期电子级过氧化氢扩建项目投产，年产量提升一倍；索尔维在我国台湾地区的合资企业Shinsol于2026年计划将其超纯过氧化氢产能提升至7万吨以上。

 

　　新思界行业分析人士表示，在我国，晶瑞电材掌握半导体G5级高纯双氧水生产技术，为国内最大供应商，建成了高纯双氧水等四个生产基地，旗下超大规模集成电路用超净高纯双氧水品质可达到10ppt以下，目前晶瑞湖北可年产电子级双氧水10万吨；2026年2月，晶瑞电材公告拟投资6亿元在四川彭山建设西部地区集成电路制造产业链配套关键材料综合基地，其中包含年产3万吨超纯电子级双氧水项目。

 

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