高纯氧化铪，又称高纯二氧化铪，指对锆（Zr）、铁（Fe）、钠（Na）、钙（Ca）、氯（Cl）等杂质严格控制的氧化铪。高纯氧化铪具备化学稳定性好、纯度高等优势，在导体、光学镀膜、核工业以及航空航天等众多领域应用广泛。
高纯氧化铪主要制备方法包括碱熔-结晶法、湿法冶金萃取法、氯化-提纯-氧化法等。碱熔-结晶指以氧化铪为原料，与固体碱、助熔剂熔融得到碱熔熟料，经过浸出、过滤、沉淀、除杂、煅烧等流程制得成品，该法可用于制备纯度达99.995%的高纯氧化铪；湿法冶金萃取法为高纯氧化铪主流制备方法，以废金属铪为原料，经溶解、过滤，多级逆流萃取等流程制得成品。
近年来，伴随研究深入，我国高纯氧化铪相关专利数量不断增加，主要包括《高纯氧化铪及其制备方法》、《一种高纯氧化铪的溶解方法》、《一种高纯氧化铪的制备方法》、《一种协同萃取制备高纯氧化铪的方法》、《一种高效绿色的高纯氧化铪制备方法》、《一种溶剂萃取分离锆和铪制备高纯氧化铪的方法》等。未来伴随技术进步，我国高纯氧化铪行业发展速度有望加快。
根据新思界产业研究中心发布的《
2026-2030年高纯氧化铪行业深度市场调研及投资策略建议报告》显示，高纯氧化铪用途广泛，主要包括半导体、光学镀膜、核工业以及航空航天等。在半导体领域，高纯氧化铪作为高k栅介质，可有效抑制栅极隧穿漏电、控制芯片功耗，该领域为其最大需求端；在光学镀膜领域，其可用作激光器镀膜材料；在核工业领域，其可用于制造核反应堆控制材料；在航空航天领域，其可用于制造飞机高温部件。
我国高纯氧化铪代表企业包括江西中铪新材料有限公司、山东域潇铪业新材料有限公司、三祥新材股份有限公司等。三祥新材已实现4N5-5N级高纯氧化铪工业化量产，产品已在半导体制造领域获得广泛应用。
新思界
行业分析人士表示，高纯氧化铪性能优异，可用作半导体制造高k栅介质材料。未来伴随全球半导体产业逐渐向我国大陆转移，我国高纯氧化铪市场需求将进一步增长。目前我国高纯氧化铪研发热情持续高涨，已取得众多新进展。未来随着本土企业持续发力以及技术进步，我国高纯氧化铪产量及质量将不断提升。
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