光刻胶专用光引发剂是光刻胶配方体系中承载光敏特性的核心功能性原料。该材料可在特定波长紫外光源的照射下触发光化学反应，定向生成自由基、阳离子或光酸等活性中间体，以此诱导或催化光刻胶主体树脂发生溶解性突变，最终完成微纳图形的精准转移复刻。作为光刻胶的关键功能组分，光引发剂的品类与性能直接决定光刻胶的感光度、成像分辨率以及显影对比度，是影响光刻制程精度与良率的核心因素。
根据光化学反应机制，光刻胶专用光引发剂主要分为PAC感光型光引发剂与PAG产酸型光引发剂两大类。PAC感光化合物光引发剂，以重氮萘醌（DNQ）酯类为核心代表，主要适配g线、i线常规光刻胶的线性酚醛树脂体系。PAG光致产酸光引发剂，常温下多为固态，是KrF、ArF及EUV等高端化学放大型光刻胶的核心光敏材料。
依据分子结构与电荷特征，PAG光引发剂可进一步分为离子型与非离子型。离子型PAG主要包括硫鎓盐、碘鎓盐，具有产酸效率高的优势，但与疏水性光刻胶树脂相容性较弱，易出现膜内组分偏析、分布不均等问题。非离子型PAG以肟磺酸酯、萘酰亚胺磺酸酯等品类为主，在光刻胶薄膜中分散均匀性更优异，是目前EUV先进光刻胶光引发剂的重点研发与应用方向。
在我国，光刻胶专用光引发剂生产企业主要包括常州强力电子新材料股份有限公司、天津久日新材料股份有限公司等。强力新材在光刻胶专用光引发剂领域具有较完整的产品线，可生产PCB光刻胶光引发剂、LCD光刻胶光引发剂等。2026年9月，久日新材在投资者互动时表示，公司可生产PCB光刻胶用光引发剂，光致产酸剂（PAG）尚处于开发阶段，2026年上半年光敏剂及其中间体销量合计31.34吨，同比增长177.30%。
新思界
行业分析人士表示，我国企业在光刻胶专用光引发剂领域的布局还在不断深入。2026年1月，湖北兴福电子材料股份有限公司收购湖北三峡实验室重大科技成果“光刻胶用光引发剂制备专有技术及实验设备所有权”，转让G/I线光刻胶用光引发剂的关键制备技术，中试样品已在多家光刻胶企业通过初步验证。2026年8月，湖北兴福电子材料股份有限公司300吨/年光刻胶用光引发剂项目工程设计第二次招标。
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