非离子型光致产酸剂，简称非离子型PAG，是一类中性有机光敏化合物，可在紫外、深紫外、电子束及高能射线辐照条件下，通过分子内光解、化学键断裂或结构重排等光化学反应，释放出具有催化活性的酸性物质。
非离子型PAG与硫鎓盐、碘鎓盐为代表的离子型PAG存在本质结构差异：非离子型PAG分子不含鎓盐阳离子结构，无离子对体系；其光致产酸机制完全依托分子内发色基团吸收光子能量，触发后续化学键断裂反应，进而完成产酸过程，整体反应过程均在单分子体系内独立完成。
非离子型PAG具备两大核心技术优势。一方面，其分子骨架可通过官能团修饰灵活调控吸光性能，能够针对性匹配不同曝光波段的光谱响应需求，适配多类光刻制程体系。另一方面，中性非离子分子结构使其与光刻胶有机聚合物基质的相容性大幅提升，在胶膜内溶解性与分散均匀性更佳，可有效缓解配方组分偏析问题，提升光刻胶成膜均一性。
根据新思界产业研究中心发布的
《2026-2030年全球及中国非离子型光致产酸剂（PAG）行业研究及十五五规划分析报告》显示，非离子型PAG曝光后主要生成磺酸类酸性物质，酸强度适中、酸扩散距离可控，成像精度稳定性优异。相较于硫鎓盐、碘鎓盐等离子型PAG，非离子型PAG在热稳定性与产酸强度上存在一定差距，综合性能更温和。因此在ArF、EUV先进光刻体系中，非离子型PAG并非替代离子型产品，而是作为互补配方体系，主要用于实现更精准的酸扩散调控，优化图形边缘粗糙度与制程窗口。
非离子型PAG适配多波段光刻工艺，应用场景覆盖半导体先进制程、显示面板、先进封装及微纳加工等多个领域。在i线（365nm）、KrF（248nm）成熟光刻制程中，肟磺酸酯类非离子型PAG凭借优异的感光灵敏度与较低的酸扩散特性，成为化学放大型光刻胶的优选光敏组分，可有效提升图形成像精度与制程稳定性。
在EUV（13.5nm）先进光刻领域，非离子型PAG凭借可控的酸扩散性能与出色的电子束敏化效率，能够有效改善光刻图形边缘粗糙度，是当前先进光刻胶配方迭代的重点研究方向。同时，依托良好的树脂相容性与成膜分散性，非离子型PAG广泛应用于显示面板光刻胶与先进封装光刻材料体系，可显著降低膜内组分偏析问题，提升涂层均匀性与制程良率。此外，非离子型PAG也可作为核心产酸组分，应用于阳离子紫外固化体系及各类微纳精密加工场景。
新思界
行业分析人士表示，2025年，全球非离子型光致产酸剂（PAG）市场规模约为1.47亿美元，预计2032年将达到2.26亿美元，期间复合年均增长率为6.34%。我国非离子型PAG市场布局企业主要包括威迈芯材（合肥）半导体有限公司、常州强力电子新材料股份有限公司等。
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