高纯超细硼粉一般指纯度≥99.9%，粒度处于微米、亚微米乃至纳米区间的单质硼粉体，大多为无定形（非晶）结构。晶态硼化学稳定性更强，而非晶硼化学活性更高，粉体外观为灰黑色或棕褐色，具备密度高、燃烧热值高的特点，不溶于水与常规无机酸，可溶于浓碱液。
根据新思界产业研究中心发布的
《2026年中国高纯超细硼粉市场专项调研及企业“十五五规划”建议报告》显示，相较于冶金级以及普通工业硼粉，高纯超细硼粉的核心管控要点是纯度与粒度两项指标同步达标。纯度水平决定材料能否用于半导体掺杂、核用中子吸收等场景；粒度和比表面积则直接影响其在含能体系中的点火燃烧性能，以及粉末冶金过程的烧结活性。按照纯度划分，高纯超细硼粉包含3N（99.9%）、4N（99.99%）、5N（99.999%）以及6N（99.9999%）及以上电子级规格，纯度越高，痕量金属杂质和氧含量的控制难度越高。
含能材料与固体推进剂是高纯超细硼粉最主要的应用领域。硼的质量燃烧热可达58.30MJ·kg⁻¹，体积燃烧热为136.44 kJ·cm⁻³，远优于铝、镁等常规金属燃料；以超细无定形硼粉为可燃组分的含硼贫氧推进剂，是固体冲压发动机极具竞争力的能量体系。含能场景对硼粉纯度的要求源于燃烧效率：硼粉表面生成的氧化层（B2O3）会抑制点火过程、阻碍能量充分释放，高纯超细粉体能够降低燃烧体系内惰性氧化产物的占比，因此推进剂用硼粉在纯度、粒度指标上相比普通工业硼粉管控标准更为严格。
核工业是高纯超细硼粉另一大核心应用领域。硼-10同位素具备高中子吸收截面，高纯超细硼粉与硼-10富集硼粉可制备反应堆控制棒、中子屏蔽构件以及中子探测计数器。半导体行业中，6N及以上高纯超细硼粉可作为离子注入掺杂源与硼扩散源。
高纯超细硼粉的制备路线有：硼卤化物氢还原法，将高纯三氯化硼与氢气置于高温条件下发生气相反应，生成非晶硼粉体，纯度区间99.9%~99.999%，粒度可控在0.1~1μm，但三氯化硼具有强毒性，反应生成的氯化氢还会造成设备腐蚀，带来较高的安全管控成本；等离子体合成法，以BCl3与H2为原料，混合气体在超高温等离子弧内瞬时反应并配合快速淬冷，可以抑制晶核生长与结晶过程，一步制备纳米非晶硼粉。
新思界
行业分析人士表示，在全球范围内，高纯超细硼粉市场由美国SBBoron公司垄断。我国湖北省智仁新材料有限公司布局高纯无定形硼粉产业化项目，采用“自蔓延高温合成+精制除杂+废液绿色回收”成套工艺路线，目标为实现该产品的国产化替代。
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