五氯乙硅烷（PCDS），分子式为Si₂HCl₅，CAS登录号为31411-98-0，相对分子质量约234.4g/mol，是一种氯代乙硅烷。五氯乙硅烷外观呈无色透明液体，分子结构中含Si–Si键、同时带有一个Si–H键和五个Si–Cl键，具备对湿气和氧气高度敏感、蒸气压操作窗口低、反应活性高等特点，在集成电路、光伏发电、特种硅材料制备等领域有所应用。
近年来，我国企业不断加大对于五氯乙硅烷制备方法的研究，带动其相关专利数量不断增加，主要包括《五氯乙硅烷的制造方法以及采用该方法制造的五氯乙硅烷》、《一种集成电路用电子级五氯乙硅烷生产系统》、《一种集成电路用电子级五氯乙硅烷生产工艺》等。未来伴随技术进步，我国五氯乙硅烷产量及质量有望提升。
根据新思界产业研究中心发布的《
2026-2030年五氯乙硅烷（PCDS）行业深度市场调研及投资策略建议报告》显示，五氯乙硅烷在集成电路、光伏发电、特种硅材料制备等领域有所应用。在集成电路领域，五氯乙硅烷可在集成电路中沉积硅薄膜和氮化硅薄膜。近年来，伴随全球半导体产业逐渐向我国大陆转移，我国集成电路产量不断增长。据国家工信部统计数据显示，2026年1-5月，我国集成电路产量达到2286亿块，同比增长25.4%。在此背景下，五氯乙硅烷应用需求有望增长。
五氯乙硅烷为氮化硅前驱体材料。氮化硅作为硅基薄膜材料，主要应用于集成电路制造前后端工艺中。等离子体增强化学气相沉积（PECVD）、低压化学气相沉积（LPCVD）和原子层沉积（ALD）为氮化硅薄膜主要沉积工艺。五氯乙硅烷可通过PECVD工艺形成氮化硅薄膜，成品具备湿法蚀刻抗性好、薄膜密度高等特点。
全球五氯乙硅烷市场主要参与者包括日本电化株式会社（Denka）、法国液化空气有限公司（Air Liquide）等。在本土方面，江苏南大光电材料股份有限公司、内蒙古大全半导体有限公司等为我国五氯乙硅烷代表企业。南大光电推出的五氯乙硅烷主要用于PEALD形成氮化硅工艺中。
新思界
行业分析人士表示，五氯乙硅烷作为氮化硅前驱体材料，行业发展前景较好。未来伴随我国集成电路产量不断增长，五氯乙硅烷市场空间有望扩展。受益于研究深入，我国五氯乙硅烷技术有所进步。未来伴随本土企业持续发力，我国五氯乙硅烷行业景气度将进一步提升。
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