光刻胶显影液是光刻工艺中将曝光后光刻胶的可溶解区域予以去除的化学溶剂，其核心功能是将掩模版上的图形精确转移至晶圆或显示面板基板表面。根据显影机理不同，光刻胶显影液分为正性显影液和负性显影液两大类。正性显影液以碱性水溶液为主，典型产品为四甲基氢氧化铵（TMAH）水溶液；负性显影液多采用有机溶剂体系。
TMAH显影液的核心理化优势包括：超高纯度、极低金属离子杂质；受热分解产物为三甲胺、甲醇等挥发性物质，高温分解无固体残留，不会在晶圆表面留下金属污染；氢氧化钾（KOH）等传统无机碱显影液会引入金属离子，极易造成器件漏电、失效，TMAH显影效果显著优于传统无机碱性显影液。
光刻胶显影液下游应用主要集中在三大领域：半导体集成电路、平板显示面板及印刷电路板（PCB）。在半导体领域，光刻胶显影液应用于晶圆制造的光刻图形化工序；在显示面板领域，TMAH显影液是LCD、OLED面板制程中的关键配套材料；在PCB领域，光刻胶显影液用于覆铜板干膜/湿膜光刻图形转移工序，去除曝光后未交联固化的光刻胶，为后续线路蚀刻、电镀成型提供图形基础。
光刻胶显影液制备需要多级纯化工艺保障产品金属离子、颗粒等关键指标。国际半导体设备与材料协会（SEMI）制定的湿电子化学品标准将产品分为G1至G5五个等级，其中G5为最高纯度等级。现阶段，我国已有头部企业突破多级微滤-超滤原材料纯化等核心技术，光刻胶显影液指标参数已达到SEMI G5标准要求。
新思界
行业分析人士表示，杭州格林达电子材料股份有限公司是我国面板光刻胶龙头企业，核心产品TMAH显影液用于LCD、OLED显示面板生产过程中，主要客户为京东方、华星光电、天马微电子、维信诺、韩国LG等国内外面板企业；格林达承接的国家科技重大专项课题“光刻胶用显影液（极大规模集成电路用）”项目已完成G5等级显影液的研发、验证和测试，并通过科技部项目验收。
信联电子材料科技股份有限公司主要产品包括TMAH显影液，已在Micro-LED、OLED、AMOLED、TFT-LCD产线中规模化应用，客户覆盖京东方、华星光电、天马微电子、惠科股份、维信诺等显示面板企业；在集成电路领域，信联电科的TMAH显影液已率先实现国产厂商在12英寸集成电路晶圆产线的量供，下游客户包括长鑫存储等。
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