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我国碳化硅超细粉体布局企业不断增多 新型制备工艺不断开发问世

2026-05-13 17:52      责任编辑:周圆    来源:www.newsijie.com    点击:

我国碳化硅超细粉体布局企业不断增多 新型制备工艺不断开发问世

  碳化硅超细粉体,平均粒径小于1微米(μm)、SiC纯度大于99.9%、杂质含量低,具有硬度高、耐磨、耐高温、化学性质稳定、导热导电性优、比表面积大、表面活性高等特点。
 
  碳化硅超细粉体可以应用在半导体产业,对蓝宝石、氮化铝、氮化硅基片进行研磨抛光;可用于陶瓷行业,烧结制备精密陶瓷、结构陶瓷、高性能陶瓷,进而应用在电子封装、新能源电池等领域,以及用来制造密封环、轴承等零部件;可应用在航空航天产业,用来制备耐高温涂层材料、高温结构件;可用作高导热/散热材料、催化剂载体,以及用来制备高性能复合材料等。
 
  根据新思界产业研究中心发布的《2026-2030年全球及中国碳化硅超细粉体行业研究及十五五规划分析报告》显示,2025年,全球碳化硅超细粉体市场规模约为1.89亿美元,预计发展到2032年将增长至2.93亿美元,期间年复合增长率为6.46%。全球碳化硅超细粉体市场在未来一段时间内将保持稳定增长态势,主要得益于半导体产业、新能源汽车产业、可再生能源发电产业、高性能先进陶瓷产业发展推动。
 
  2025年以来,我国碳化硅超细粉体的新制备工艺路线不断被开发问世。2025年7月,宁夏星辰新材料有限公司公开了“一种碳化硅超细粉体的制备方法”专利,采用“粉碎-整形-逐步研磨-喷雾干燥”工艺路线,制备得到粒径可控、粒度分布良好的碳化硅超细粉体。
 
  2025年8月,西安博尔新材料有限责任公司授权公告了“一种半导体用碳化硅超细粉体纯化工艺”专利,将木材碳化形成碳模板,通过浸渗、氩气氛围煅烧、真空热处理、球磨得到碳化硅粉体,再经聚乙烯亚胺和食用脂肪酸基油处理、碱液反应、混合酸蒸汽反应,获得高纯碳化硅超细粉体。2025年10月,中国科学院理化所与清华大学合作提出利用Si-N2、Si-C强弱放热反应耦合设计来同步合成纳米SiC与高纯Si3N4陶瓷粉体的新思路。
 
  新思界行业分析人士表示,我国碳化硅超细粉体布局企业正在增多。2026年3月,赤峰天隆新材料科技有限公司年产15万吨精密高性能陶瓷原料碳化硅超细粉体项目正式备案,计划总投资19.92亿元,新建4台40000KVA碳化硅超细粉体冶炼炉,高纯碳化硅超微粉生产装置,高纯度亚微米碳化硅微粉生产装置,年产精密高性能陶瓷原料碳化硅超细粉体15万吨。
 
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