深紫外氟化物光学晶体是一类在深紫外波段（波长低于200纳米）具有优异光学性能的光学级晶体材料。氟化物晶体是一类以氟离子（F-）为阴离子的无机晶体材料，分为光学晶体、闪烁晶体、激光晶体、磁光晶体等类别，其中光学晶体主要用作透镜、棱镜、窗口材料。
深紫外光属于短波光，穿透能力差、双折射率小，较多光学材料对其透过率差，目前深紫外氟化物光学晶体种类少，主要包括深紫外氟化钙晶体（CaF2）、氟化镁（MgF2）、氟化锂（LiF2）及氟化硼酸盐等光学晶体。
深紫外氟化物光学晶体在深紫外波段仍拥有良好透过率，其中氟化镁在120nm深紫外段透过率超50%，氟化钙透光范围覆盖0.13μm-10μm。深紫外氟化物光学晶体是深紫外光学器件、深紫外固态激光器的核心材料，其综合性能直接决定了深紫外激光输出的光束质量和转换效率。
根据新思界产业研究中心发布的
《2026-2030年深紫外氟化物光学晶体行业深度市场调研及投资策略建议报告》显示，深紫外氟化物光学晶体在光学窗口、激光器、天文仪器、半导体光刻设备、科学研究等领域有着重要应用价值，近年来，随着以上领域的发展，深紫外氟化物光学晶体市场需求持续增长。尤其是半导体光刻机领域，极紫外光刻技术正逐步实现量产化，对作为透镜和窗口材料的深紫外氟化物光学晶体需求迫切。
深紫外氟化物光学晶体行业壁垒高，大尺寸晶体生长需突破开裂、散射、小角度晶界等技术难题，且单炉生长周期长、生长良率低，导致深紫外氟化物光学晶体市场集中度较高，国际企业德国肖特、美国康宁、日本OHARA等占据全球市场重要份额。
我国深紫外氟化物光学晶体国产化率低，尤其是高端紫外氟化物光学晶体，国产替代空间广阔。但近年来，国家对半导体、光学等领域的重视程度不断提高，科研院校及企业研制水平持续提升，深紫外氟化物光学晶体市场正迎来国产化机遇。
新思界
行业分析人士表示，我国深紫外氟化物光学晶体相关研究单位及生产企业包括中国科学院新疆理化技术研究所、上海德硅凯氟光电科技有限公司、哈尔滨工业大学及秦皇岛本征晶体科技有限公司、福建福晶科技股份有限公司等。
其中上海德硅凯氟已建成国内首条8英寸至12英寸紫外级氟化钙晶体生产线，20英寸以上大口径氟化钙晶体生长已经取得突破，年产150吨深紫外氟化物光学晶体制造项目于2026年1月正式开工建设。
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