碳化硅外延生长设备，简称SiC外延生长设备，指专用于碳化硅晶片外延生长的设备。碳化硅外延生长设备需具备尺寸兼容性好、参数易控制、工艺精度高等优势，数据中心、光伏发电、轨道交通、新能源汽车等领域为其终端市场。
按照反应室结构不同，碳化硅外延生长设备可分为水平温壁设备、垂直热壁设备以及水平热壁设备三种类型。水平温壁设备基于感应加热原理，采用多层水平进气，具备成品质量好、成品收率高等优势，但其运行成本较高；水平热壁设备采用双面加热，能够为碳化硅晶片外延生长提供良好气流场和温度场环境，为碳化硅外延生长设备代表产品。
根据新思界产业研究中心发布的《
2026-2031年碳化硅外延生长设备（SiC外延生长设备）行业市场深度调研及投资前景预测分析报告》显示，碳化硅外延生长设备可用于制造碳化硅晶片，在数据中心、光伏发电、轨道交通、新能源汽车等领域需求旺盛。在数据中心领域，碳化硅晶片可用于AI数据中心电源管理系统中；在光伏发电领域，其可用于光伏逆变器中；在轨道交通领域，其可用于轨道交通牵引变流器以及电力电子变压器中；在新能源汽车领域，其可用于车载OBC充电机中。未来随着应用需求增长，碳化硅外延生长设备市场空间将得到进一步扩展。
全球碳化硅外延生长设备主要生产企业包括德国Aixtron公司、意大利LPE公司、日本东芝机械株式会社（Toshiba）、日本东京电子株式会社（Tokyo Electron Limited）等。德国Aixtron专注于半导体沉积设备的研发、生产及销售，具备高性能碳化硅外延生长设备规模化生产实力。意大利LPE推出的Pe1O6水平热壁设备具备制备周期短、成品质量好等优势，其销量位居全球领先。
在本土方面，我国碳化硅外延生长设备市场主要参与者包括晶盛机电、晶升股份、粤升半导体设备、北方华创、纳设智能等。晶盛机电专注于半导体先进材料及先进设备的研发、生产及销售，已具备12英寸单片式碳化硅外延生长设备自主研发及生产实力。
新思界
行业分析人士表示，碳化硅外延生长设备作为一种半导体设备，应用前景较好。未来随着市场需求逐渐释放，我国碳化硅外延生长设备行业发展空间将进一步扩展。目前，我国企业已具备高性能碳化硅外延生长设备自主研发及规模化生产实力，未来其行业发展态势将持续向好。
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