光刻胶显影液也称为光刻胶显影剂，是溶解由曝光造成光刻胶可溶解区域的一种化学溶剂。根据所作用光刻胶不同，光刻胶显影液分为正胶显影液和负胶显影液。负胶显影液是用于溶解负性光刻胶未曝光区域的化学药剂，由碱液（主要为氢氧化钾）、表面活性剂、水等成分组成。
为提高负胶显影液性能和生产效率，我国企业和科研机构在制造工艺和生产装置方面深入研究，带动发明专利数量不断增长，2020年来包括合肥中聚和成光电材料股份有限公司的“一种负胶显影液及其制备方法”、苏州博洋化学股份有限公司的“一种用于TFT-LCD行业CF制程的负胶显影液”、联仕新材料（苏州）股份有限公司的“一种电子级负胶显影液配置搅拌设备”等。
根据新思界产业研究中心发布的
《2026-2030年全球及中国负胶显影液行业研究及十五五规划分析报告》显示，负胶显影液主要在半导体制造及平板显示领域应用。在半导体制造领域，负胶显影液可用于集成电路光刻工艺中，去除未曝光的光刻胶并保留曝光部分；在平板显示领域，负胶显影液可用于等离子显示器（PDP）、薄膜晶体管液晶显示器（TFT-LCD）、有机发光材料显示器（OLED）彩膜工艺光刻胶的显影。随着下游行业快速发展、光刻胶应用需求不断增长，负胶显影液市场规模将持续扩大。
我国负胶显影液市场生产企业包括昆山晶科微电子材料有限公司、江阴江化微电子材料股份有限公司、杭州格林达电子材料股份有限公司、西陇科学股份有限公司、江苏贤德科技有限公司等。格林达是我国光刻胶显影液龙头企业，光刻胶显影液产品纯度高，可实现进口替代，细分产品包括TMAH正胶显影液、CF负胶显影液等。2025年9月，江苏贤德科技有限公司“年产14.8万吨电子级化学品及1万吨工业级化学品项目”环评受理公示，其中包括2000吨负胶显影液。
新思界
行业分析人士表示，随着数字经济高速发展、国家加大对半导体等重点行业支持力度，我国负胶显影剂市场需求将持续旺盛。我国负胶显影液行业起步晚，负胶显影液生产工艺和产品性能较国外先进水平存在一定差距。随着企业在工艺、装置、材料等方面的研发投入力度加大并取得突破，我国负胶显影液产品纯度将进一步提升，行业高端化发展进程将加快。
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