光掩膜版是微电子制造过程中承载图形设计信息的精密母版，通过光刻曝光工艺将电路图案或功能层图形转移至下游基板表面。LTPS用光掩膜版是适配低温多晶硅显示面板生产的高精度图形母版，一般选用表面平整度优异的合成石英或光学玻璃作为透明基板，在基板表面镀制铬系遮光膜层，再依据面板的设计参数加工形成高精度、规则排布的透光与遮光交替图形结构。
LTPS用光掩膜版的制备涵盖多道精密工序与多项核心技术，整体流程包含前期图形设计处理、核心光刻加工、后段清洗处理以及最终检测修复，全流程精度管控标准严苛。当前高端显示面板对掩膜版的线缝精度、套刻精度及缺陷管控等级要求不断提升，为满足高阶LTPS面板的生产需求，LTPS用光掩膜版制造企业需依托光学邻近校正（OPC）、相移掩膜（PSM）、半透膜（HTM）等先进技术工艺，优化图形成像效果、降低制程偏差，以此实现高精度、高良品率的掩膜版量产配套。
根据新思界产业研究中心发布的
《2026-2030年全球及中国LTPS用光掩膜版行业研究及十五五规划分析报告》显示，LTPS用光掩膜版主要应用于LTPS-LCD与AMOLED背板的TFT-Array阵列工艺，同时也可适配LTPO-OLED、LTPO-OLED等新一代背板技术对应的面板生产线。为降低AMOLED屏幕功耗，显示行业在LTPS背板基础上研发出LTPO背板技术。LTPO兼顾LTPS高分辨率、响应快，以及IGZO低待机功耗、长续航的优势。相较传统LTPS，LTPO背板需至少新增4层掩膜版。伴随LTPO-OLED出货走高与技术普及，LTPS用光掩膜版市场需求将持续提升。
在全球范围内，LTPS用光掩膜版行业集中度较高，核心参与厂商主要包括日本的SK-Electronics（SKE）、HOYA、DNP，美国的福尼克斯（Photronics），中国台湾地区的台湾光罩，以及中国大陆地区的清溢光电、路维光电等。
新思界
行业分析人士表示，在我国，LTPS用光掩膜版布局企业主要有：深圳清溢光电股份有限公司，2025年11月，清溢光电“平板显示及半导体用掩膜版”佛山生产基地投产，其中高精度平板显示掩膜版基地分三期建设，主要生产8.6代及以下高精度掩膜版，产品覆盖a-Si、LTPS、AMOLED、LTPO、MicroLED等平板显示领域。
深圳市路维光电股份有限公司，2026年4月，厦门路维光电高世代高精度掩膜版生产基地完成首批核心工艺设备搬入，项目正式转入工艺设备安装调试阶段，该项目计划建设11条高端光掩膜版生产线，主要生产8.6代及以下高精度掩膜版，产品适配a-Si、LTPS、AMOLED、LTPO、Micro-LED等显示面板制程。
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