远程等离子体源（RPS），是一种能够产生高密度等离子体的装置。远程等离子体源具备工艺选择性高、无离子轰击损伤、电子密度高、热负荷低等特点，在众多领域拥有广阔应用前景。
2024年11月，广东省真空学会发布的团体标准《T/GVS 015—2024 远程等离子体源的解离率测试方法》正式实施，文件针对远程等离子体源解离率测试方法的定义、术语、操作准备、测试步骤、测试环境条件等内容进行了明确规范，季华实验室、江苏神州半导体科技有限公司、华南师范大学等为该标准主要起草单位。未来随着行业标准不断完善，我国高性能远程等离子体源出货量有望增长。
远程等离子体源在众多领域拥有广阔应用前景，主要包括半导体制造、光伏电池制造、显示面板制造等。在半导体制造领域，远程等离子体源可用于芯片反应腔体清洗、光刻胶去除以及氮化硅/氧化硅选择性刻蚀等环节；在光伏电池制造领域，其可用于光伏电池镀膜环节；在显示面板制造领域，其可应用于LTPS（低温多晶硅）工艺中。
根据新思界产业研究中心发布的《
2026-2031年远程等离子体源（RPS）行业市场深度调研及投资前景预测分析报告》显示，在应用需求拉动下，远程等离子体源行业发展速度不断加快。2025年全球远程等离子体源市场规模达到近3.5亿美元，同比增长超过15%。未来随着高端刻蚀设备市场占比提升以及技术进步，远程等离子体源行业发展将迎来机遇。预计到2031年，全球远程等离子体源市场规模将突破10亿美元。
全球远程等离子体源市场主要参与者包括美国万机仪器有限公司（MKS Instruments）、美国Advanced Energy公司、日本Samco-UCP公司、韩国New Power Plasma公司等。在本土方面，江苏神州半导体科技有限公司、上海励兆科技有限公司、深圳市恒运昌真空技术有限公司、成都沃特塞恩电子技术有限公司等为我国远程等离子体源代表企业。恒运昌专注于半导体设备核心零部件的研发、生产及销售，其推出的远程等离子体源已在半导体薄膜沉积、刻蚀、离子注入等环节获得应用。
新思界
行业分析人士表示，远程等离子体源作为一种等离子体发生装置，应用前景较好。未来随着全球半导体产业逐渐向我国大陆转移，远程等离子体源应用需求将日益旺盛。与海外发达国家相比，我国远程等离子体源行业起步较晚，但发展势头迅猛，已有多家企业具备其自主研发及规模化生产实力。
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