在全息干涉光刻工艺中，激光束经分光、扩束后形成干涉条纹，照射至涂覆有全息干涉光刻胶的基板上，胶层中的光敏单体在干涉亮区发生聚合反应，暗区则保持未聚合状态，显影后形成精密光栅浮雕结构。全息干涉光刻胶又称全息光刻胶，是一种能够记录并再现衍射光栅结构的特殊光固化材料。
全息干涉光刻胶是全息光波导（VHG）、全息光学元件（HOE）等的重要材料，在AR增强现实显示、AR光波导镜片、汽车抬头显示、自动驾驶激光雷达、航空机载显示、全息防伪等领域具有广阔应用空间。2026年全球全息光刻胶配套材料市场规模约1.3亿美元。随着衍射光学器件、AR/VR、激光雷达等下游产业发展，全息干涉光刻胶市场规模将进一步扩张。
根据新思界产业研究中心发布的《
2026-2030年中国全息干涉光刻胶行业市场深度调研与发展趋势预测研究报告》显示，全息干涉光刻胶技术壁垒高，研发难点在于配方设计，既需要达到成膜条件，成膜时又需具有高折射率调制度、超高感光速度、高分辨率、低收缩率、耐高温高湿等特点。
由于技术壁垒高，目前全球全息干涉光刻胶市场主要由海外企业占据主导，包括日本JSR、美国杜邦、德国科思创（收购帝斯曼精细化工业务切入赛道）等，其中日本JSR自研HoloCure系列光刻胶，供货苹果、微软、Magic Leap等厂商。
我国全息干涉光刻胶国产替代空间广阔，但近年来国产化进程逐渐推进，核心力量包括南昌三极光电科技有限公司、尼卡光学（天津）有限公司、广东谷东智能科技有限公司等。
三极光电的全息衍射光学全产业链建设项项目备案信息已在相关网站公示，项目预计开工时间2026年9月，2031年8月竣工，建成后将年产全息干涉光刻胶材料150吨、全息光波导2500万片、车载抬头显示模组1500万套、激光雷达光栅800万件等。尼卡光学已突破全息光刻胶材料、全息光刻设备等核心技术壁垒，全息光刻胶材料实现了100%国产化突破。
新思界
行业分析人士表示，全息干涉光刻胶作为全息光学器件的核心材料，战略价值正随着AR光波导、汽车抬头显示等下游市场的爆发而凸显。我国以三极光电、尼卡光学为代表的国内企业正推动全息干涉光刻胶国产化进程，部分企业产品性能指标已达到或领先国际厂商。未来随着AI全息存储、全息光计算等前沿领域的技术突破，全息干涉光刻胶市场空间将进一步扩大。
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