正胶剥离液，指用于去除残余正性光刻胶的溶剂，属于湿电子化学品。正胶剥离液外观呈无色透明液体，具备热稳定性好、化学稳定性佳、挥发度低、吸湿性好等特点，在半导体制造、显示面板、先进封装等领域需求旺盛。
正胶剥离液主要采用N-甲基吡咯烷酮（NMP）、二甲基亚砜（DMSO）、γ-丁内酯（GBL）等有机溶剂制成。N-甲基吡咯烷酮，又称1-甲基2-吡咯烷酮，具备溶解能力强、化学稳定性好、毒性低、无腐蚀、粘度低等特点，在电池制造、电子化学品、药品、染料等领域应用较多。近年来，伴随技术进步，我国N-甲基吡咯烷酮产能持续扩张，产量不断增长，这将为正胶剥离液行业发展提供有利条件。
随着研究深入，我国正胶剥离液相关专利数量不断增加，主要包括《正胶剥离液、正胶剥离液的制备方法及其应用》、《一种正胶剥离液及其制备方法》、《一种无酚正胶剥离液及其制备方法》、《一种高效能正胶剥离液及其制备方法》、《一种PCB用正胶剥离液》、《一种正胶剥离液、其制备方法和应用》等。未来随着技术进步，我国正胶剥离液行业发展速度有望加快。
根据新思界产业研究中心发布的《
2026-2030年正胶剥离液行业深度市场调研及投资策略建议报告》显示，正胶剥离液可在黄光制程后高效剥离残余正性光刻胶，同时避免对底层电路或衬底材料造成损伤，半导体制造、显示面板、先进封装等领域为其主要需求端。近年来，随着全球半导体产业逐渐向我国大陆转移，我国集成电路产量不断增长。据国家工信部统计数据显示，2026年第一季度，我国集成电路产量为1272亿块，同比增长24.3%。在此背景下，正胶剥离液市场空间将得到进一步扩展。
我国正胶剥离液主要生产企业包括江阴江化微电子材料股份有限公司、江苏晶久微电子材料有限公司、西陇科学股份有限公司、常州君合科技股份有限公司等。江化微专注于超高纯湿电子化学品的研发、生产及销售，目前已与长电先进、士兰集科、万国等高端半导体企业达成合作，为其批量供应正胶剥离液。
新思界
行业分析人士表示，正胶剥离液作为半导体和显示面板制造过程中使用的重要湿电子化学品，市场前景广阔。受益于技术成熟度提升，我国正胶剥离液行业发展态势将持续向好。目前，我国正胶剥离液生产企业众多，江化微占据市场较大份额。
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