BARC即底部抗反射涂层（BottomAnti-ReflectionCoating），是抗反射涂层家族中的重要一员，在半导体生产光刻环节发挥着重要作用。
光刻技术旨在将掩模版上的精细图案精准转移到硅片的光刻胶层，然而，光刻过程中光线在光刻胶与硅衬底界面间反射，易造成驻波效应，致使图案边缘粗糙、线宽偏差，严重影响芯片制造精度与良品率。BARC的出现有效解决了这一难题，它被旋涂于硅衬底与光刻胶之间，通过吸收反射光，大幅降低界面反射率，提升光刻成像质量，保障芯片制造的高分辨率与高精度。
依据应用场景及所搭配光刻胶类别，BARC可细分为i-Line BARC、KrF BARC、ArF BARC以及iArF BARC等类型。
全球BARC市场呈现高度集中态势，几家国际化工巨头凭借深厚技术积累、先进生产工艺及完善供应链体系，牢牢把控市场主导权。信越化学作为行业领军者，依托在半导体材料领域的多元布局与强大研发实力，其BARC产品在纯度、稳定性及与各类光刻工艺适配性上表现卓越，在全球市场占据显著份额，尤其在高端制程应用中优势突出。日本合成橡胶长期专注于高分子材料研发生产，为BARC产品赋予独特性能，通过持续创新优化产品配方，在中高端市场站稳脚跟。日产化学利用自身精细化工专长，针对不同客户需求定制差异化BARC解决方案，凭借优质服务与稳定产品质量，在全球范围收获大量客户。美国的BrewerScience则以技术创新为驱动，率先推出多项前沿BARC技术，引领行业发展潮流，在新兴光刻技术适配的BARC产品领域处于领先地位。
中国BARC市场曾长期被境外厂商垄断，国内晶圆厂对信越化学、日本合成橡胶、日产化学以及BrewerScience等进口产品依赖度极高。不过，近年来随着国内半导体产业崛起，本土企业加快追赶步伐，逐步打破这一局面。恒坤新材作为国内BARC领域头部企业，经过多年研发攻关，成功实现产品量产，在国内市场份额逐年攀升。其产品性能不断向国际先进水平靠拢，已进入国内多家主流晶圆厂供应链体系，部分产品凭借性价比优势，对进口产品形成有效替代。
中国半导体产业蓬勃发展，为BARC市场注入强劲增长动力。一方面，国内晶圆厂持续扩产，先进制程产能逐步释放，对高精度光刻工艺需求激增，作为光刻关键配套材料，BARC用量上升。另一方面，随着5G、人工智能、物联网等新兴技术兴起，各类芯片需求爆发，从消费电子到工业控制、汽车电子等多领域，对芯片性能与精度要求不断提高，间接推动BARC市场扩容。据新思界发布的《
2025年中国BARC市场专项调研及企业“十五五规划”建议报告》显示，2024年，中国BARC市场规模近30亿元，且增长态势良好。
新思界
分析人士认为，未来，国产BARC企业有望借助本土供应链优势、政策扶持以及对国内客户需求的精准把握，持续扩大市场份额，进口品牌份额将相应收缩，但短期内进口主导格局难以彻底扭转。而国内晶圆厂产能的扩张及释放，尤其是国内晶圆厂向高制程演进，将为本土BARC行业发展带来较大的市场空间。
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