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电子级三氟化氯是半导体清洗与蚀刻环节所需重要特气 市场发展潜力巨大

2023-08-23 09:55      责任编辑:程玉    来源:www.newsijie.com    点击:
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  三氟化氯是一种化学式为ClF3的无机化合物,常温下外观呈无色气体状,具有腐蚀性,易于液化,液态三氟化氯外观呈浅黄绿色液体状,有较大毒性。根据用途、性能指标不同,三氟化氯可分为电子级三氟化氯、工业级三氟化氯等。
 
  其中工业级三氟化氯主要作为氧化剂用于氟化剂、燃烧剂、推进剂等化工产品生产场景,终端应用领域涉及塑料、化工、冶金、机械、军工、环保、能源等;电子级三氟化氯主要用于半导体制程的硅片与腔体清洗环节与蚀刻环节,是电子工业常用的一种高性能特气。
 
  电子级三氟化氯是三氟化氯市场中最具发展潜力的细分品类。目前半导体制程中清洗与蚀刻环节所需主流电子特气是三氟化氮(NF3),2022年其在全球电子特气市场占比已超20%。与三氟化氮相比,电子级三氟化氯在使用前无需经过等离子体激化,在室温下即可与半导体材料进行反应,因此可广泛用于冷壁CVD腔室清洗场景;同时,使用三氟化氯进行清洗还是一种化学蚀刻过程,其刻蚀去除率可达10μm/min以上。
 
  根据新思界产业研究中心发布的《2023-2028年电子级三氟化氯行业市场深度调研及投资前景预测分析报告》显示,电子级三氟化氯作为一类高性能的电子特气产品,目前其已在全球半导体制造领域实现广泛应用,多用于14nm制程以下芯片的清洗与刻蚀环节。2022年全球电子级三氟化氯市场规模约为1.2亿美元,在全球电子特气市场占比仅不到3%。
 
  未来电子级三氟化氯有着广阔的市场发展潜力。一方面,电子级三氟化氯多用于半导体领域的14nm制程以下芯片制造环节。我国作为全球半导体生产大国,虽然我国芯片制造技术正在不断进步,14nm制程芯片已实现量产,但14nm制程以下芯片仍处于研发阶段,尚未实现规模化量产。因此,三氟化氯在我国半导体领域有着巨大发展潜力,未来市场需求有望在14nm制程以下芯片量产后实现大幅增长。
 
  新思界行业分析人士表示,另一方面,电子级三氟化氯技术难度较大,目前全球具备该产品规模化量产能力的企业仅有日本关东电化、日本旭硝子等少数几家,总体产量还比较低。但经过不断研究与发展,我国已有福建德尔科技具备电子级三氟化氯产业化量产能力,成功打破市场垄断,成为全球除日、美以外第三个实现电子级三氟化氯产业化的国家。未来随着国产三氟化氯产量不断提升,其有望满足后续国内市场持续增加的三氟化氯需求。
关键字: 三氟化氯 ClF3