氧化镓同质外延片，指在氧化镓（Ga₂O₃）单晶衬底上，通过外延生长技术继续生长与衬底材料相同、晶格结构一致氧化镓单晶薄膜所形成的半导体材料。氧化镓同质外延片具备高温稳定性好、击穿电场强度高、能量转换效率高等特点，在新能源汽车、新能源发电、工业电机、智能电网、数据中心等众多领域拥有巨大应用潜力。
金属有机化学气相沉积法（MOCVD）、卤化物气相外延法（HVPE）和雾化化学气相沉积法（Mist CVD）为氧化镓同质外延片主要制备方法。金属有机化学气相沉积法（MOCVD）采用三乙基镓等金属有机前驱体配合氧气或水作为氧源制备氧化镓同质外延片；卤化物气相外延法具备生长速率高、沉积速率快等优势，在氧化镓同质外延片制备过程中应用较多。
近年来，我国企业及相关科研机构不断加大对于氧化镓同质外延片的研究，带动其专利数量不断增加，主要包括《高质量氧化镓同质外延片的制备方法》、《氧化镓同质外延片的原位高温退火方法及外延片》、《一种n型氧化镓单晶衬底的同质外延片及其制备方法》等。未来伴随研究深入，我国氧化镓同质外延片技术水平有望提升。
根据新思界产业研究中心发布的《
2026-2030年氧化镓同质外延片行业深度市场调研及投资策略建议报告》显示，氧化镓同质外延片在众多领域拥有巨大应用潜力，主要包括新能源汽车、新能源发电、工业电机、智能电网、数据中心等。氧化镓同质外延片可用于新能源汽车车载充电器（OBC）和快充桩中；在新能源发电领域，其可用于光伏逆变器中；在工业电机领域，其可用于工业电机驱动系统中；在智能电网领域，其可用于高压直流输电设备中。
全球氧化镓同质外延片市场主要集中于日本，代表企业包括日本NCT、日本FLOSFIA等。在本土方面，杭州镓仁半导体有限公司、杭州富加镓业科技有限公司、北京镓族科技有限公司等为我国氧化镓同质外延片代表企业。目前，镓仁半导体已具备2-8英寸氧化镓同质外延片自主研发及生产实力。
新思界
行业分析人士表示，氧化镓同质外延片行业发展正处于从实验室验证向规模化量产跨越的关键阶段。未来伴随下游行业发展速度加快以及技术进步，氧化镓同质外延片市场规模有望增长。受市场前景吸引，我国已有多家企业布局氧化镓同质外延片研发及生产赛道，未来其行业发展态势将持续向好。
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