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晶圆制造逐渐往平坦化方向发展 带动CMP钻石碟市场需求增长

2023-05-17 15:58      责任编辑:杨光    来源:www.newsijie.com    点击:
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        CMP钻石碟(CMP Disk)为CMP技术重要耗材,指用于维持抛光垫表面粗糙状态及研磨性能的材料。CMP钻石碟具有硬度高、耐腐蚀性强、可延长抛光垫使用寿命等优势,在晶圆制造过程中应用较多。近年来,伴随晶圆制造逐渐往平坦化方向发展,CMP钻石碟应用前景不断向好。

        CMP钻石碟主要原材料为钻石。钻石又称金刚钻,是一种由碳元素组成的单质晶体,由天然或人造金刚石制成,具有硬度高、折射率高、耐磨、光泽度好等优势,按照用途不同,可分为工业级钻石以及宝石级钻石两类。我国钻石主产地包括河南、湖南、山东、辽宁等,2022年我国工业级钻石产量达到近3000吨。未来伴随工业级钻石产量提升,我国CMP钻石碟行业发展速度将进一步加快。

        CMP钻石碟通常需要和CMP抛光垫搭配使用。CMP抛光垫又称CMP研磨垫,指采用物理机械方法,实现晶圆平坦化处理的消耗材料。按照材质结构不同,CMP抛光垫可分为带绒毛结构的无纺布抛光垫、无纺布抛光垫、复合型抛光垫以及聚合物抛光垫等。受益于下游需求增长,我国CMP抛光垫行业发展速度加快,2022年其市场规模同比增长12.6%。在此背景下,我国CMP钻石碟行业发展空间不断扩展。

        根据新思界产业研究中心发布的《2023-2028年中国CMP钻石碟行业市场深度调研及发展前景预测报告》显示,CMP钻石碟主要用于晶圆制造过程中,占据CMP材料成本近一成。近年来,在国家政策支持以及技术创新水平提升等积极因素推动下,我国8寸晶圆产能不断提升,已成为全球最大生产国,占据全球总产能近20%。晶圆表面平坦能够提高光刻质量和精度,满足芯片小型化需求。伴随晶圆制造逐渐往平坦化方向发展,我国CMP钻石碟市场需求日益旺盛。

        在行业发展初期,受技术壁垒高、生产成本高等因素限制,我国CMP钻石碟进口依赖度较高。经过多年发展,我国CMP钻石碟技术成熟度提升,带动其市场国产化进程加快。华海清科、鼎龙股份等为我国CMP钻石碟主要生产商。

        新思界行业分析人士表示,作为CMP技术重要耗材,CMP钻石碟市场需求旺盛,行业发展前景较好。近年来,伴随晶圆制造逐渐往平坦化方向发展,CMP钻石碟市场空间不断扩展。预计未来一段时间,随着本土企业技术创新水平提高,高质量、高性能将成为我国CMP钻石碟行业发展主要方向。
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