光刻级熔融石英是深紫外（DUV）光刻机、准分子激光（193nm）系统、深紫外光学镜头等的核心光学材料，纯度要求至少达9个9（99.9999999%）以上。熔融石英是高纯度二氧化硅（纯度达99.9%以上）经高温熔融（1700℃以上）形成的无定形材料。
根据新思界产业研究中心发布的
《2026-2030年光刻级熔融石英行业深度市场调研及投资策略建议报告》显示，193纳米（nm）紫外光刻技术是实现芯片纳米级精度加工的核心工艺之一。在193nm波长下，普通光学玻璃不透光，仅有光刻级熔融石英、氟化钙（CaF₂）两种材料可用，其中光刻级熔融石英凭借极低的热膨胀系数、优异的光学三维均匀性、极高的深紫外波段透光率等优势，成为该波段优选可实用材料。
在深紫外光刻机中，光刻级熔融石英主要应用在照明系统（作用为投影系统提供均匀、特定形状的照明光）、投影物镜系统（作用将掩膜版电路图案精确缩小并投影到硅片上）、光掩膜基板（作用承载芯片设计图案）等部位，其性能直接影响光刻成像性能。
在准分子激光系统（尤其是193nm ArF、248nm KrF等紫外波段）中，光刻级熔融石英可用作透射与聚焦元件（作用是辅助激光穿透、改变光路方向、聚焦）、激光窗口片/光学平板、棱镜或透镜（用于聚焦、准直或扩束激光光束）等。
熔融石英是人工合成的非晶态玻璃。高纯合成石英制备方法包括直接法（化学气相沉积法CVD、等离子体化学气相沉积法PCVD）、间接合成法等。间接合成法又称两步法，分为SiO2粉末体的沉积和烧结两个工序，具有沉积速度快、成本低、易掺杂等优势，可用于深紫外透过、高抗激光损伤石英玻璃的制造。
光刻级熔融石英技术壁垒高，全球市场呈现高度垄断格局，目前能够稳定供应满足193nm光刻级熔融石英的厂家包括德国Heraeus公司、美国Corning公司、德国蔡司公司、德国Schott等极少数欧美国家。
新思界
行业分析人士表示，光刻级熔融石英可广泛应用在光刻机、准分子激光、航空航天、半导体、精密光学、集成电路、武器装备等领域，市场增长潜力巨大。我国支持DUV光刻机核心零部件国产化发展，长春光机所、广西产研神光、南通晶体、菲利华等企业和单位正积极推动光刻级熔融石英国产化。
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