光刻物镜即光刻投影物镜，是由二三十片精密透镜或六面超大反射镜组成的光学系统，用于光线聚焦，并将掩模上的图案缩小后精确投射至硅片表面，决定着芯片制程的上限。
根据新思界产业研究中心发布的
《2026-2030年光刻物镜（光刻投影物镜）行业市场供需现状及行业经营指标深度调查分析报告》显示，光刻物镜是光刻机最难量产、最复杂的核心零部件：光刻物镜的透镜从毛坯玻璃到成品透镜，需经过上百道工序，且每一片透镜元件的面形精度要求控制在原子级别，二三十片透镜叠在一起后，要求波前误差（WFE）小于1纳米RMS，几乎不能存在面形误差、中心偏、间距误差、材料不均匀性等任何误差源。
目前光刻物镜主要分为DUV透射式物镜（适配28nm及以上成熟制程）、EUV反射式物镜（适配7nm以下先进制程）两大技术路线。普通光学玻璃难以适配193nm波长，仅有熔融石英和氟化钙（CaF2）单晶两种材料可满足DUV透射式物镜需求，目前全球仅有德国Heraeus、德国Schott、美国Corning等几家欧美企业能提供193nm光刻级熔石英。
在EUV时代，EUV反射式物镜技术难度进一步升高。由于13.5nm波长的极紫外光能量太高，玻璃、金属等任何材料都会强烈吸收，透射式物镜方案不再适用，改用全反射式结构——多层膜反射镜是唯一解决方案。多层膜反射镜由交替蒸镀钼和硅组成，在13.5nm波长下，通过布拉格衍射效应，多层膜反射镜仅可实现约70%的反射率。
光刻物镜性能决定光刻机的分辨率、套刻精度，由于技术壁垒极高，目前德国蔡司一家企业几乎垄断全球全部高端市场，且垄断格局2-3年内无法打破。德国蔡司是全球唯一EUV反射式物镜量产厂商，和ASML深度绑定独家供货，由于生产周期长，蔡司光刻物镜交付周期在18个月以上，极大地制约了ASML光刻机扩产进度，ASML光刻机订单已排至2028年。
新思界
行业分析人士表示，在中低端DUV透射式物镜上，已有尼康、佳能等企业具有自产能力，配套自家光刻机整机。我国光刻机物镜研发参与者主要包括茂莱光学、国科精密、长春光机所等，其中长春光机所研制了波像差优于0.75nm RMS的两镜EUV光刻物镜系统，接近ASML同类产品水平。
随着先进制程向7nm及以下演进，高端EUV物镜市场需求正快速释放，但由于技术壁垒高，目前仅有德国蔡司一家企业具有量产能力，我国需求依赖进口、国产化率极低，未来几年，光刻物镜供需紧张格局将持续延续。
关键字：
