光刻机（lithography）又名掩模对准曝光机，光刻系统等，采用类似照片冲印的技术，把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上。光刻机根据曝光方式不同可分为接触式光刻机、投影式光刻机和直写式光刻机；根据曝光光源不同可分为紫外光刻机（UV）、极紫外光刻机（EUV）和深紫外光刻机。
光刻机产业链上游为激光器、光学镜头、承片台、紫外光源等零部件的供应；中游为设备的生产制作；下游广泛应用于芯片、半导体、集成电路等领域。
根据新思界产业研究中心发布的
《2023-2027年光刻机行业深度市场调研及投资策略建议报告》显示，近年来光刻机在下游市场需求的推动下快速发展，一方面，社会智能化、信息化发展趋势不断加快，5G技术不断普及推广，市场对高性能芯片的需求不断增长；另一方面，传统产业转型升级，高端制造业不断发展，半导体产业在政策支持及市场推动下快速发展；加之国民生活水平不断提升，智能手机、电脑等消费电子需求不断增长，光刻机应用领域不断拓展，需求不断增加。2022年我国光刻机需求量超过650台，市场规模超过140亿元。
2019年以来，受贸易摩擦加剧、疫情反复、芯片需求疲软等因素的影响，我国光刻机价格开始大幅下降，从2019年5000万元/台下降到2021年约2300万元/台，近两年价格趋于平稳。随着光刻机生产技术不断成熟、国产化进程不断加快，行业竞争愈发激烈，未来光刻机仍有一定降价空间。
从市场竞争格局来看，光刻机具有较高的技术壁垒和行业门槛，佳能、阿麦斯、尼康等国外品牌占据大部分市场份额，形成垄断格局。我国光刻机行业长期处于落后状态，对进口产品依赖性强，但在国家政策扶持及龙头企业的带领下，研发及生产进度不断加快。目前国内光刻机研发生产企业有上海微电子装备有限公司、北京华卓精科科技股份有限公司、长春国科精密光学技术有限公司、东方晶源微电子科技有限公司等。
新思界
行业分析人士表示，随着半导体产业不断发展，制造业转型升级加快，光刻机作为关键生产设备，具有较大发展潜力。目前国外品牌在光刻机市场中占据主导地位，国产品牌仍有较大发展空间，国内生产企业需要加大研发投入，提高自主创新能力，不断优化产品质量和性能，加快光刻机国产化进程。
