CVD即化学气相沉积，是指一类用于制备高纯、高性能固体薄膜的技术，其技术原理为将含有薄膜元素的气相化合物或单质引入反应室，在基体表面发生化学反应生成薄膜的过程。由于CVD技术具有成膜范围广、薄膜覆盖率高、重现性好、沉积速率高、操作维护方便、灵活性强等优点，因此其目前已被广泛应用于复合材料制备、芯片制造、超子导技术、微电子学工艺等领域。
而CVD设备是指以CVD为技术载体，由真空系统、电机部分、特气系统、射频系统等部分构成的机械设备。根据沉积条件、技术原理不同，CVD设备可分为PECVD设备、LPCVD设备、APCVD设备、SACVD设备等。其中PECVD设备具有产出薄膜纯度高与致密度强、生产效率高、成膜温度低、设备密封性好等优势，目前已成为我国芯片制造薄膜沉积工艺中运用最广泛的一类设备。
从全球市场来看，当前在半导体产业快速发展带动下，相关设备市场需求不断增长，而CVD设备作为重要半导体设备之一，其市场需求随之持续增加、规模快速扩大。2021年全球CVD设备市场规模已达93.7亿美元，同比增长6.1%。
从国内市场来看，受全球半导体产业向中国转移趋势不断加深背景下，国内半导体产业景气度加速上行，进而带动CVD设备市场需求不断增加。根据新思界产业研究中心发布的
《2023-2028年CVD设备行业市场深度调研及投资前景预测分析报告》显示，2021年我国CVD设备市场规模已达235.1亿元，同比增长8.6%。当前国内CVD设备市场增速高于全球市场，行业发展前景较好。
目前全球CVD设备市场仍由美国应用材料、美国泛林Lam Research、日本东京电子TEL、德国ASM、日本Kokusai五家外资企业占据垄断地位，2021年五家企业市占比共计达到89%，行业集中度较高。在国内CVD设备市场中，本土企业沈阳拓荆、北方华创、中微公司、嘉芯半导体正在积极追赶国际领先水平。
其中本土龙头企业沈阳拓荆已拥有PECVD、ALD、SACVD设备三大产品线，已具备14nm及以上制程产品量产能力，产品已覆盖28nm及以上全介质薄膜；而北方华创CVD设备已在8寸晶圆厂各个领域得以广泛应用。新思界
产业分析人员表示，未来在本土企业研发进程不断加快以及更先进制程技术不断突破背景下，国内CVD设备市场国产化进程有望不断加快，行业发展前景广阔。
