深紫外光刻胶，简称DUV光刻胶，指专门适配深紫外波段（160~280nm）曝光光源的光刻胶。深紫外光刻胶具备分辨率高、纯度高、工艺适配性好等优势，在显示面板以及集成电路制造过程中应用较多。
近年来，我国企业及相关科研机构不断加大对于深紫外光刻胶的研究，带动其相关专利数量不断增加，主要包括《一种用于深紫外光刻胶树脂溶液固体含量的精密检测方法》、《一种深紫外光刻胶及其制备方法》、《一种深紫外光刻胶及其制备方法和应用》、《一种用于深紫外光刻胶的高透明聚合物树脂及其合成方法和应用》等。未来伴随研究深入，深紫外光刻胶行业发展速度有望加快。
深紫外光刻胶主要由成膜树脂、光引发剂、溶剂以及添加剂组成。成膜树脂包括聚对羟基苯乙烯（PHS）以及甲基丙烯酸酯类聚合物，对于深紫外光刻胶的机械强度、附着力与耐刻蚀性起到决定性作用。在行业发展初期，受技术壁垒高、生产成本高等因素限制，欧美以及日本等国占据全球光刻胶用树脂市场主导地位。近年来，随着技术进步，我国光刻胶用树脂产量及质量有所提升，这将为深紫外光刻胶行业发展提供有利条件。
根据新思界产业研究中心发布的《
2026-2030年深紫外光刻胶（DUV光刻胶）行业深度市场调研及投资策略建议报告》显示，深紫外光刻胶主要应用于显示面板以及集成电路制造过程中。近年来，随着全球半导体产业逐渐向我国大陆转移，我国集成电路产量持续增长。据国家工信部统计数据显示，2026年1-5月，我国集成电路产量达到2286亿块，同比增长25.4%。未来伴随下游行业景气度提升，深紫外光刻胶市场空间将得到进一步扩展。
全球深紫外光刻胶代表企业包括日本富士胶片（Fujifilm）、日本东京应化（TOK）、日本住友化学（Sumitomo）等。在本土方面，科华微电子、华睿芯材、奥克股份等为我国深紫外光刻胶市场主要参与者。华睿芯材专注于半导体光刻胶及其配套化学品的研发、生产及销售，主营产品包括深紫外光刻胶、极紫外光刻胶以及电子束光刻胶。
新思界
行业分析人士表示，深紫外光刻胶为半导体制造关键材料，未来随着应用需求增长，其市场空间将得到进一步扩展。目前，我国企业已具备深紫外光刻胶自主研发及规模化生产实力，华睿芯材占据市场较大份额。
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