刻蚀后清洗液，指用于去除刻蚀工艺后残留在基材表面各种杂质的特种化学溶液。刻蚀后清洗液需具备化学兼容性好、清洁能力强、工艺适应性强、绿色环保、使用寿命长等特点，在半导体制造的干法刻蚀工艺以及湿法刻蚀工艺中应用较多。
近年来，国家对于电子化学品行业发展高度重视，已出台多项相关政策，主要包括《石化化工行业稳增长工作方案（2025-2026年）》、《精细化工产业创新发展实施方案（2024—2027年）》、《重点新材料首批次应用示范指导目录（2024年版）》、《产业结构调整指导目录（2024年本）》等。未来随着国家政策支持，刻蚀后清洗液作为电子化学品，行业发展速度有望加快。
刻蚀后清洗液为半导体蚀刻工艺后段环节使用的化学试剂，能有效去除刻蚀过程中产生的残留物。在干法刻蚀工艺中，刻蚀后清洗液能够去除等离子体反应残留物；在湿法刻蚀工艺中，其可用于去除氧化物杂质以及金属杂质。
根据新思界产业研究中心发布的《
2026-2030年中国刻蚀后清洗液市场行情监测及未来发展前景研究报告》显示，随着全球半导体产业发展速度加快，刻蚀后清洗液应用需求日益旺盛。2025年全球刻蚀后清洗液市场规模达到近3亿美元，同比增长超过5%。未来随着技术进步，刻蚀后清洗液行业景气度将进一步提升。预计到2031年，全球刻蚀后清洗液市场规模将突破5亿美元。
在本土方面，刻蚀后清洗液主要用于集成电路制造过程中。近年来，随着技术进步，我国集成电路产量持续增长。据国家工信部统计数据显示，2025年1-10月，我国集成电路产量达到3866亿块，同比增长10.2%。未来随着应用需求增长，我国刻蚀后清洗液行业发展空间将进一步扩展。
全球刻蚀后清洗液主要生产商包括美国杜邦公司（DuPont）、德国默克公司（Merck）、美国英特格公司（Entegris）、日本JSR株式会社等。在本土方面，安集科技、上海新阳等为我国刻蚀后清洗液主要生产商。安集科技专注于芯片制造过程中工艺与材料的研发及应用，为我国刻蚀后清洗液代表企业。
新思界
行业分析人士表示，随着我国集成电路产量持续增长，刻蚀后清洗液作为其刻蚀工艺后使用的清洗助剂，市场空间不断扩展。预计未来一段时间，伴随国家政策支持以及本土企业持续发力，我国刻蚀后行业景气度将不断提升。
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