按照涂覆位置不同，抗反射涂层（ARC）可分为底部抗反射涂层（BARC）以及顶部抗反射涂层（TARC）。顶部抗反射涂层，指应用于光刻胶上表面的光学薄膜，其利用光学干涉原理，可有效控制光反射。顶部抗反射涂层需具备透明度高、光阻兼容性好、工艺适应性强等特点，在半导体制造以及显示技术领域应用较多。
顶部抗反射涂层通常由含氟聚合物为主要原材料制成。含氟聚合物普遍存在原子折射率小、分子体积大等特点，适用于光刻工艺中。近年来，随着技术成熟度提升，我国含氟聚合物产量及质量不断提高，这将为顶部抗反射涂层行业发展奠定良好基础。
底部抗反射涂层（BARC）具备反射效果好、能避免异常曝光、改善基底平坦性等特点，为抗反射涂层市场主流产品，占比达到近七成。受应用场景单一、技术迭代速度较慢等因素限制，我国顶部抗反射涂层市场占比较低，这是行业发展面临的主要挑战。
根据新思界产业研究中心发布的《
2025-2030年中国顶部抗反射涂层（TARC）行业市场深度调研及发展前景预测报告》显示，顶部抗反射涂层主要应用于半导体制造以及显示技术领域。在半导体制造领域，顶部抗反射涂层可应用于集成电路光刻工艺中。近年来，随着我国半导体产业发展速度加快，集成电路产量持续增长。据国家工信部统计数据显示，2025年前三季度，我国集成电路产量达到3819亿块，同比增长8.6%。未来随着下游行业发展速度加快，顶部抗反射涂层市场空间有望扩展。
全球顶部抗反射涂层市场主要参与者包括美国布鲁尔科技股份有限公司（Brewer Science）、日本日产化学工业株式会社（Nissan Chemical）、日本信越化学工业株式会社（Shin-Etsu Chemical）以及德国默克集团（Merck）等。在本土方面，恒坤新材、淮显光电、菲沃泰等为我国顶部抗反射涂层行业主要布局企业。恒坤新材专注于光刻材料和前驱体材料的研发、生产和销售，已掌握顶部抗反射涂层核心制备技术。
新思界
行业分析人士表示，随着我国半导体行业发展速度加快，顶部抗反射涂层作为光刻工艺材料，应用需求不断增长。在市场竞争方面，恒坤新材为我国顶部抗反射涂层代表企业。目前，我国顶部抗反射涂层行业发展仍面临一定挑战，未来随着本土企业持续发力以及技术进步，其市场占比将得到进一步提升。
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