光刻胶剥离液，又称去胶剂，指能够去除曝光显影后残留在基板上光刻胶的化学材料。光刻胶剥离液需具备绿色环保、剥离性强、安全可靠性高、工艺兼容性强等特点，在显示面板以及集成电路制造过程中拥有广阔应用前景。
按照主要成分不同，光刻胶剥离液可分为碱性水溶型剥离液以及有机溶剂型剥离液两种类型。有机溶剂型剥离液可细分为二甲基亚砜（DMSO）、N-甲基吡咯烷酮（NMP）、N-甲基甲酰胺（NMF）等。NMP具备溶解性好、剥离效率高、毒性低、对基片损伤小等优势，为光刻胶剥离液代表产品；NMF主要应用于显示面板光刻胶去除过程中。
根据新思界产业研究中心发布的《
2025-2030年中国光刻胶剥离液行业市场深度调研及发展前景预测报告》显示，光刻胶剥离液作为一种电子化学品，在显示面板以及集成电路制造过程中拥有广阔应用前景。在显示面板领域，光刻胶剥离液可用于去除显示面板曝光后的光刻胶残留。近年来，随着全球显示面板产业逐渐向我国大陆转移，我国LCD显示面板以及OLED显示面板产能持续扩张。以OLED显示面板为例，2024年我国产能占据全球总产能近五成。未来随着市场需求逐渐释放，我国光刻胶剥离液行业发展速度将进一步加快。
全球光刻胶剥离液主要生产企业包括日本长濑产业株式会社（Nagase）、日本富士胶片控股株式会社（FUJIFILM）、日本东京应化工业株式会社（TOK）、韩国株式会社东进世美肯（DONGJIN SEMICHEM）、美国Avantor公司、美国杜邦公司（DuPont）、美国Futurrex公司等。日本富士胶片具备光刻胶剥离液、显影液等光刻胶配套试剂自主研发及生产实力，产品已在正性和负性光刻胶去除过程中获得广泛应用。
在本土方面，我国光刻胶剥离液市场主要参与者包括兴欣新材、澄星股份、飞凯材料、格林达、联卓电子、瑞众新材等。飞凯材料专注于屏幕显示材料、半导体材料的研发、生产和销售，其推出的光刻胶剥离液已在半导体先进制程中获得应用。
新思界
行业分析人士表示，光刻胶剥离液作为光刻胶配套试剂，应用前景广阔，行业发展速度不断加快。未来随着市场需求日益旺盛，我国光刻胶剥离液行业发展空间将进一步扩展。随着技术成熟度提升，我国光刻胶剥离液市场参与者数量不断增长，未来具备高端产品生产实力的企业将成为行业龙头。
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