光刻胶稀释剂，是一种光刻胶助剂，对于光刻工艺的分辨率和线宽精度起到重要作用。光刻胶稀释剂对于纯度、溶解性以及化学稳定性有较高要求，在先进封装、芯片制造、显示面板制造等众多领域需求旺盛。
光刻胶稀释剂主要包括二缩三丙二醇二丙烯酸酯（TPGDA）、三羟甲基丙烷三丙烯酸酯（TMPTA）、丙二醇甲醚醋酸酯（PGMEA）、N-甲基-2-吡咯烷酮（NMP）等。丙二醇甲醚醋酸酯具备挥发性高、表面张力低、双键转化率高、显影性好等优势，为光刻胶稀释剂代表产品。未来随着技术进步，我国高性能丙二醇甲醚醋酸酯市场占比有望提升，这将为光刻胶稀释剂行业发展提供有利条件。
国家对于光刻胶配套试剂行业发展高度重视，已出台多项相关政策。2024年1月1日，由国家工信部发布的《重点新材料首批次应用示范指导目录（2024年版）》正式实施，文件明确将剥离液、稀释剂、蚀刻液等集成电路用光刻胶配套试剂纳入先进半导体材料目录。受益于国家政策支持，我国光刻胶稀释剂行业发展速度有望加快。
根据新思界产业研究中心发布的《
2025-2030年中国光刻胶稀释剂行业市场深度调研及发展前景预测报告》显示，光刻胶稀释剂在众多领域需求旺盛，主要包括先进封装、芯片制造、显示面板制造等。近年来，受益于国家政策支持以及技术进步，我国半导体以及显示面板行业发展速度加快，带动光刻胶应用需求不断增长。2024年我国光刻胶市场规模达到近120亿元，其中集成电路用光刻胶市场规模达到近70亿元。随着下游行业景气度提升，光刻胶稀释剂市场空间有望扩展。
全球光刻胶稀释剂主要生产企业包括美国杜邦、美国陶氏、韩国株式会社东进世美肯等。在本土方面，容大感光、上海新阳、怡达股份、广信材料等为我国光刻胶稀释剂市场主要参与者。与海外发达国家相比，我国光刻胶稀释剂行业起步较晚，目前以实验室研发为主。
新思界
行业分析人士表示，光刻胶稀释剂作为光刻胶配套试剂，应用需求旺盛，行业发展速度不断加快。在行业发展初期，受技术壁垒高、生产成本高等因素限制，我国光刻胶稀释剂高度依赖进口。未来随着本土企业持续发力以及技术进步，我国光刻胶稀释剂市场国产化进程有望加快。
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