量子点膜用高阻隔膜产品是量子显示封装技术的关键产品，高阻隔膜的制备技术决定着阻隔膜产品性能特性。通过分析量子点膜用高阻隔膜产品性能指标，总结热蒸发、化学气相沉积、原子层沉积等制备柔性高阻隔薄膜的方法、原理、特点及应用，展望量子点膜用阻隔膜产品的发展前景。
目前，结合有机/无机多层成膜特点，总结得出，高阻隔膜阻隔性能提升，主要通过真空镀膜技术来实现。电子束蒸镀技术生产速率最快，阻隔性能较差，制造成本最低，适用于铝等金属的蒸发镀膜。磁控溅射技术可以大大地提高阻隔性能，制造成本较高，但是不适用于产业化推广，卷绕式PECVD，成本较高，生产速率较快，阻隔性能优异，非常适用于产业化应用。原子层沉积技术，可以用过数层原子级薄膜实现优异的阻隔性能，但是沉积速率较慢，卷对卷原子层沉积设备还处在研发阶段。
目前，国内在量子点膜用高阻隔膜产品方面，主要依赖进口，没有批量化的生产设备，高校研究院所在阻隔膜制备工艺以及小规模的生产方面积累了丰富的经验，但是对多层结构的超高阻隔膜批量化生产少有报道。
目前，量子点膜用阻隔膜产品主要为透明氧化硅薄膜。透明氧化硅薄膜光学性能优异，阻隔性能良好，被广泛地应用在量子点膜产品中。当前，国内尚无大批量生产用于量子点膜的氧化硅薄膜，主要由美国3M、日本尾池进口少量供应，价格昂贵；自2016年以来，国内万顺、康得新、激智科技等引进国外生产设备和技术，透明氧化物薄膜研制生产能力大幅提高，在部分量子点膜产品上实现了小批量应用。
新思界
产业分析人士表示，随着以量子点膜、OLED为代表的柔性电子产品市场的不断发展，超高阻隔膜的市场需求也必然进一步扩大。现今已经有许多公司和研究机构都在不断开发更高阻隔性能的阻隔膜，以期满足市场不断发展的需要。而且 3M、GE等公司已经推出商业化生产超高阻隔膜，但也只是一些小范围的应用。
