光致酸产生剂是一种光敏感的化合物，在光照下分解产生酸(H+)。在曝光后烘烤过程中，这些酸会作为催化剂使得聚合物上悬挂的酸不稳定基团脱落，并产生新的酸。光致酸产生剂市场根据不同应用细分为光刻、照相制版、印刷电路板等，其中光刻领域按类型进一步分为EUV、I-Line、ArF和KrF，EUV可进一步细分为离子型PAG和非离子型PAG。
根据新思界产业研究中心整理发布的《
2020-2025年光致酸产生剂行业深度分析及＂十四五＂发展规划指导报告》显示，由于消费电子产品的需求增加以及消费者对使用技术先进的电子产品的偏好增加，预计光刻应用领域将出现快速增长。此外，在PCB和微处理器的制造中光刻工艺的使用越来越多，加上计算机芯片和集成电路（IC）产量的增加，可能会进一步促进光致酸产生剂的市场销售。预计今后几年光刻领域对于光致酸产生剂的需求将会进一步增长。
通过EUV工艺制造集成电路（IC）对离子PAG的需求不断增加，可能会增加离子PAG在EUV应用中的份额。三芳基磺酸盐在电子设备上使用的紫外线防护涂料中的应用不断增加，可能会促进光致酸产生剂的市场需求。由于芳族磺酸盐在半导体，光学、电子束或EUV光刻中作为中性PAG的应用不断增加，因此在EUV应用的非离子PAG市场中占据了主导地位。越来越多地将砜用作断链基（EUVL）抗蚀剂材料，这可能会增加EUV应用中非离子型PAG的光致产酸剂市场份额。芳基重氮盐用于化学合成的多功能性可能会提高光酸产生剂的市场需求。在与各种亲核试剂反应中，将二芳基碘鎓作为亲电子芳基化试剂的应用不断增加，有望促进I-Line应用中离子PAG的增长。重氮萘醌（DNQ）转换成易于与光接触后会蚀刻的衍生物的特性可能会提高对DNQ作为半导体行业中非离子型PAG的需求。微电子芯片制造和半导体IC生产对ArF的需求不断增长，这将成为行业增长的主要推动力。
当前全球市场范围内，亚太地区是光致酸产生剂的主要需求地区，这是由于中国、日本、韩国等国家半导体行业发展快速，对于光致酸产生剂的市场需求持续增长。
新思界
行业研究员表示，光致酸产生剂行业的主要参与者是Heraeus Holding、Toyo Gosei Co.，Ltd.、FUJIFILM Corporation、San-Apro Ltd.、Chembridge International Corp. Ltd、Shin-Etsu Chemical Co.，Ltd.、JSR公司、住友化学有限公司等。
