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氮化铝镓(AlGaN)应用前景广阔 MOCVD是其重要生长方法

2023-11-14 17:37      责任编辑:王昭    来源:www.newsijie.com    点击:
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氮化铝镓(AlGaN)应用前景广阔 MOCVD是其重要生长方法

  氮化铝镓(AlGaN)是一种超宽禁带半导体材料,由铝、镓、氮构成。氮化铝镓具有氮化铝AlN、氮化镓GaN双重优势,如化学稳定性好、熔点极高、导热系数高、质地坚硬、发光效率高等。基于此,氮化铝镓在半导体、照明、电子器件、光通信、医疗、航天航空等领域展现出了广阔应用前景。

  氮化铝镓可用于制备能在高温高压环境中工作的器件,目前基于氮化铝镓材料的紫外发光二极管、紫外激光二极管已在医疗卫生、工业等领域得到广泛应用。氮化铝镓也可用于制备高频率、高功率的器件,如光调制器、光放大器等。其中蓝光激光器是新一代激光器,在高反金属材料加工领域具有明显优势。

  根据新思界产业研究中心发布的《2023-2027年中国氮化铝镓(AlGaN)行业市场供需现状及发展趋势预测报告》显示,氮化铝镓光学性能优良,是目前研究热情较高的超宽禁带半导体材料之一,全球相关研究机构或院校有日本东北大学、中科院宁波材料所、沙特阿卜都拉国王科技大学(KAUST)等。随着研究深入,氮化铝镓在技术储备、性能提升等方面实现了一定积累,为其应用扩展提供了有力支撑。

  在制备技术方面,氮化铝镓制备技术有金属有机物化学气相沉积(MOCVD)、三维生长法、脉冲溅射沉积法(PSD)、分子束外延法(MBE)等。由于氮化铝镓外延生长与氮化镓、氮化铝外延生长技术相通,MOCVD成为氮化铝镓及其器件重要生长方法。

  氮化铝镓是氮化镓、氮化铝的合金材料。氮化镓、氮化铝同属于第三代半导体材料,我国第三代半导体材料市场起步较晚,但在政策扶持、技术突破助力下,第三代半导体材料行业发展迅速,其中氮化镓上市企业有华润微、三安光电、闻泰科技等;氮化铝相关企业有华清电子、宁夏秦氏、钜瓷科技等。另一方面,我国镓、铝资源丰富,是全球最大的镓、铝生产国和消费国。

  新思界行业分析人士表示,作为超宽禁带半导体材料之一,氮化铝镓可用于制备高频、高功率器件,在光通信、航天航空、医疗、照明等领域应用前景广阔。目前氮化铝镓在性能提升、技术储备等方面实现了一定积累,但在器件应用、产业发展等方面仍存在较大开发空间。

关键字: 氮化铝镓 MOCVD