溅射是属于物理气相沉淀技术的一种，主要用于制备薄膜材料，是利用离子源产生的离子，在真空中经过加速聚集，而形成高速度能的离子束流，轰击固体表面，离子和固体表面原子发生动能交换，使固体表面的原子离开固体并沉积在基底表面的过程。溅射靶材是指被攻击的固体用溅射法沉淀薄膜的原材料，主要应用于集成电路、半导体、玻璃镀膜、平板显示器、太阳能电池、激光存储器、电子控制器件、耐磨材料、高档装饰用品等领域，其中半导体、平板显示器、太阳能电池、集成电路是目前高纯溅射靶材的主要应用领域。
根据新思界产业研究中心发布的《
2020-2025年高纯溅射靶材行业市场深度调研及投资前景预测分析报告》显示，溅射靶材的种类较多，分类方法也不尽相同，按照应用领域分类，溅射靶材可分为半导体用靶材、平面显示器靶材、太阳能电池靶材、信息存储靶材、工具改性靶材、电子器件靶材以及其他靶材。其中因半导体对金属材料的纯度、内部微观结构等要求较高，伴随着半导体工业发展，高纯溅射靶材市场规模迅速扩大。2019年，全球半导体行业营收超过4100亿美元，中国市场的半导体销售占了全球销售量33%左右，为高纯溅射靶材行业发展提供了广阔的空间。同时随着人工智能的快速发展，以及5G、物联网、新能源汽车等战略性新兴产业的推动下，半导体的需求将持续增加，带动高纯溅射靶材市场规模扩大。
高纯溅射靶材行业属于电子材料领域，产业链主要包括金属提纯、靶材制造、溅射镀膜和终端应用等环节，其中金属提纯分为化学提纯、物理提纯，为提高金属提纯效率，通常将化学提纯和物理提纯混合使用。高纯溅射靶材制造环节由于技术壁垒高、设备投资大，国内具有规模化生产能力的企业数量较少。从全球市场来看，高纯溅射靶材主要生产企业分布在美国、日本等国家和地区，由日矿金属、东曹、霍尼韦尔、普莱克斯、住友化学、爱发科等跨国集团占据主导地位。近年来，得益于国家持续支持电子材料行业的发展及应用推广，溅射靶材生产企业不断进行研发创新，已成功开发出能适应高端应用领域的高纯溅射靶材，为我国高纯溅射靶材大规模产业化提供了良好市场条件。
新思界
行业分析人士表示，中国是制造大国，近年来，随着国内科技技术不断进步，半导体、平板显示器、太阳能电池、集成电路等领域对高纯溅射靶材的需求持续增加，随着国内溅射靶材生产企业自主研发能力变强，高纯溅射靶材市场不断向高端应用领域扩张，这为我国高纯溅射靶材大规模生产提供了良好的市场环境。
