光刻环节是芯片生产过程中最关键的环节，直接决定了芯片的性能水平。光刻机是半导体产业中最核心的设备，其研发技术门槛和资金投入门槛非常高。现阶段，全球市场上的光刻机生产企业非常少，荷兰的ASML、日本的尼康和日本的佳能三家企业垄断国际市场。
荷兰ASML公司在国际光刻机市场上占据着绝对份额，在高端产品领域更是垄断市场，企业利润率非常高。日本尼康与佳能原本是ASML公司的主要竞争对手，但现阶段日本尼康在光刻机领域处于持续亏损状态，正在逐渐衰落，而佳能因亏损已退出高端光刻机市场。荷兰ASML公司垄断格局更加明显。
根据新思界产业研究中心发布的
《2018-2022年光刻机行业深度市场调研及投资策略建议报告》显示，2017年，全球光刻机总出货量中，荷兰ASML公司出货占比为69%，在EUV光刻机领域其占有率为100%，在高端光刻机领域其占有率为89%。日本尼康出货量占比为9%；日本佳能出货量占比为25%，但佳能的出货集中在低端产品领域。现阶段，全球最顶尖的光刻机是EUV光刻机，即极紫外线光刻机，这种光刻机技术被荷兰ASML公司独家垄断。全球光刻机市场荷兰ASML公司一家独大。
我国光刻机研发企业有上海微电子装备（SMEE）、中子科技集团第四十五研究所、合肥芯硕半导体、先腾光电科技、无锡影速半导体科技五家公司。其中上海微电子技术水平在国内市场处于领先地位，是我国唯一一家可以生产90纳米光刻机的企业，代表着我国光刻机产业的技术水平。
我国光刻机产业起步晚，技术水平低，经验积累薄弱，现阶段最先进的光刻机产品是上海微电子的90纳米的工艺技术，与荷兰ASML公司的低端产品处于同一水平。且我国90纳米光刻机产品尚未经过晶圆厂的产线验证，与荷兰ASML公司量产的7纳米EUV光刻机技术相比，差距巨大。
人才是发展光刻机产业的重要因素之一，2017年6月，上海集成电路研发中心与荷兰ASML公司签署合作备忘录，并于2018年5月在上海合作共建了一个半导体光刻人才培训中心，这是我国第一个世界级光刻人才培训基地。随着技术的不断积累，以及人才逐步到位，我国光刻机行业将进入快速发展阶段，但仍有很长的道路要走。
新思界
产业研究人员表示，我国是消费电子产销大国，计算机与手机的CPU制造都离不开光刻机，而我国的光刻机技术还处于探索阶段，取得了一些成就，但仍与国际先进水平相比差距巨大。现阶段，全球光刻机市场中荷兰ASML公司独占鳌头，在未来很长一段时间内，我国光刻机仍依赖进口。上海微电子作为后起之秀，技术积累薄弱，未来仍需不断提高研发水平，突破技术封锁。
