电子束光刻机（EBL），指通过利用聚焦高能量电子束与覆盖在基片表面的抗蚀剂相互作用，使抗蚀剂链结构发生化学变化，从而实现曝光的设备。电子束光刻机具备分辨率高、无需掩膜、图形设计灵活等优势，在半导体领域应用较多。
电子束光刻机主要由偏转系统、热场发射电子源、高精度定位系统、电磁透镜组、真空系统以及高压电源与控制系统组成。偏转系统包含电子束偏转器，可实现纳米级雕刻；热场发射电子源能产生高能量电子束，为电子束光刻机核心组件。近年来，随着本土企业持续发力，我国电子束光刻机核心组件市场国产化进程不断加快，这将为电子束光刻机行业发展提供有利条件。
电子束光刻机种类丰富。按照电子束数量不同，电子束光刻机可分为单束电子束光刻机以及多束电子束光刻机；按照扫描方式不同，可分为光栅扫描式电子束光刻机以及矢量扫描式电子束光刻机；按照电子束形状不同，可分为可变形束电子束光刻机以及高斯束电子束光刻机。未来伴随细分产品应用需求不断增长，电子束光刻机行业发展速度有望加快。
根据新思界产业研究中心发布的《
2026-2030年全球及中国电子束光刻机（EBL）行业研究及十五五规划分析报告》显示，电子束光刻机主要应用于半导体领域，可制造先进或特种光掩模版。近年来，随着全球半导体产业逐渐向我国大陆转移，我国电子束光刻机市场空间不断扩展。2025年我国电子束光刻机市场规模达到近5亿元，同比增长超过30%。未来随着技术进步以及应用需求增长，我国电子束光刻机行业发展态势将持续向好。
全球电子束光刻机主要生产企业包括日本NuFlare、日本Elionix、德国Vistec、德国Raith等。在本土方面，浙江大学余杭量子研究院、南京冠石科技股份有限公司、安徽泽攸科技有限公司等为我国电子束光刻机市场主要参与者。浙江大学余杭量子研究院自主研发的“羲之”100kV电子束光刻机，为我国首台国产商业电子束光刻机，精度达到0.6nm，线宽达到8nm。
新思界
行业分析人士表示，电子束光刻机作为高精度图形化工具，凭借其优异性能，已在半导体领域获得广泛应用。未来伴随市场需求逐渐释放，我国电子束光刻机行业发展空间将得到进一步扩展。目前，我国企业及相关科研机构正在加大对于电子束光刻机的研发及生产，未来其行业发展前景将持续向好。
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