按照曝光光源波长不同，正性光刻胶可分为i线正性光刻胶和g线正性光刻胶两种类型。g线正性光刻胶，指以436nm波长紫外光（g-line）为曝光光源的正性光刻胶。g线正性光刻胶具备化学稳定性好、感光度高、工艺适配性好等优势，在半导体制造、显示面板制造等场景有所应用。
近年来，国家对于光刻胶行业发展高度重视，已出台多项相关政策，主要包括《产业结构调整指导目录（2024年本）》、《重点新材料首批次应用示范指导目录（2024年版）》、《鼓励外商投资产业目录（2025年版）》等。未来随着国家政策支持，g线正性光刻胶作为光刻胶细分产品，行业发展速度将进一步加快。
g线正性光刻胶制备涉及酚醛树脂分子量分级与混合、重氮萘醌光敏剂合成与酯化度控制、添加剂筛选、溶剂纯化等环节。重氮萘醌光敏剂合成为g线正性光刻胶制备关键环节，对其分辨率起到决定性作用。目前，我国企业已掌握重氮萘醌光敏剂高效生产技术，这将为g线正性光刻胶行业发展提供有利条件。
根据新思界产业研究中心发布的《
2026-2030年g线正性光刻胶行业深度市场调研及投资策略建议报告》显示，g线正性光刻胶主要应用于半导体制造以及显示面板制造等场景。在半导体制造场景，g线正性光刻胶可用于MOSFET、IGBT等半导体功率器件制造过程中；在显示面板制造场景，其可用于OLED显示面板光刻工艺中。未来随着市场需求逐渐释放，我国g线正性光刻胶行业发展空间将得到进一步扩展。
与海外发达国家相比，我国g线正性光刻胶行业起步较晚，但发展势头迅猛，已有多家企业具备其生产实力。我国g线正性光刻胶主要生产企业包括久日新材、晶瑞电材、安徽觅拓、彤程新材、容大感光等。久日新材专注于光引发剂、单体、齐聚物、紫外吸收剂等材料的研发、生产及销售，目前已建成g线正性光刻胶规模化生产线。据久日新材企业年报显示，2025年公司光刻胶实现营收150.2万元。
新思界
行业分析人士表示，g线正性光刻胶作为半导体和显示面板光刻工艺关键材料，应用需求旺盛。未来伴随下游行业发展速度加快以及技术进步，我国g线正性光刻胶市场空间将得到进一步扩展。在国家政策大力支持以及本土企业持续发力等积极因素推动下，我国g线正性光刻胶行业发展态势将持续向好。
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