电子专用剥离液，属于湿电子化学品，作用是选择性地去除电子元器件制造过程中表面特定的有机胶膜类物质，是精密电子制造所需的关键材料之一，OCA光学胶剥离液与光刻胶剥离液是其两大主要产品类型。
OCA光学胶无色透明、光透过率高、粘接强度高、固化收缩小，在透明光学元件粘接方面不可或缺，是显示面板、触摸屏、光学镜头等生产过程中的关键基础材料。OCA光学胶剥离液涂覆在隔离膜上，用在制品与部件之间，可以防止已成型制品粘结在部件上，使制品易脱模，不损伤制品与部件表面质量。
光刻胶涂覆在硅片上，利用紫外光、电子束、离子束等照射固化，显影形成图案，光刻胶具有抗腐蚀作用，未被光刻胶覆盖的硅片表面与蚀刻剂发生反应被去除，再利用光刻胶剥离液清洗光刻胶，从而实现图形转移。光刻胶剥离液在去除光刻胶的同时，不能对衬底造成损坏。
估算2020-2025年，我国光刻胶市场规模年复合增长率在7.95%左右，2025年市场规模将达到123.5亿元；估算2020-2025年，我国OCA光学胶市场规模年复合增长率在8.87%左右，2025年市场规模将达到102.5亿元。在此背景下，我国电子专用剥离液需求随之不断上升。
根据新思界产业研究中心发布的
《2026年中国电子专用剥离液市场专项调研及企业“十五五规划”建议报告》显示，电子专用剥离液的成分包括N-甲基吡咯烷酮（NMP）、四甲基氢氧化铵（TMAH）、二甲基亚砜（DMSO）、乙醇胺（MEA）、乙二醇单丁醚（EGBE）等。电子专用剥离液可以广泛应用在半导体、显示面板、太阳能电池等生产领域，产品纯度要求高、杂质含量控制要求严格。
电子专用剥离液行业进入壁垒高，且技术含量还在不断提升。例如在光刻胶剥离液方面，随着高精度光刻技术发展，硅片上刻蚀的图案愈发精细，光刻胶残留增多，电子专用剥离液性能要求日益提高。
新思界
行业分析人士表示，在我国市场中，电子专用剥离液布局企业主要有江阴江化微电子材料股份有限公司、安集微电子科技（上海）股份有限公司、江苏艾森半导体材料有限公司、杭州格林达电子材料股份有限公司、江苏澄星磷化工股份有限公司、香洋新材料（江苏）有限公司等。
2025年2月，香洋新材料（江苏）有限公司年产6000吨电子光学胶（OCA）、4000吨电子专用剥离液项目受理公示。我国电子专用剥离液行业产能规模还在扩大。
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