碳化硅是第三代半导体材料，具有化学性能稳定、耐磨、禁带宽度大、导热性能好、热膨胀系数小等特点，可用于制备短波发光二极管、紫外探测器、抗辐照半导体器件等。碳化硅抛光液，是一种用于碳化硅材料表面抛光的物质，通常由磨料、氧化剂、其他功能添加剂等组分组成，其中常用的磨料为氧化铝、氧化锆、碳化硅等，氧化剂为硫酸盐、双氧水、过硼酸盐、高锰酸盐等。
抛光液是一种不含任何硫、磷、氯添加剂的水溶性抛光剂，具有去油污、防锈、增光等性能，主要在半导体、LED领域应用。根据主要成分不同，抛光液包括金刚石抛光液（多晶金刚石抛光液、单晶金刚石抛光液和纳米金刚石抛光液）、氧化硅CMP抛光液、氧化铈抛光液、氧化铝抛光液、碳化硅抛光液等。碳化硅抛光液具有抛光表面质量好、去除效率高、易清洗等特点，可有效提高碳化硅衬底表面质量，进而提高半导体器件性能。
根据新思界产业研究中心发布的
《2025-2029年全球及中国碳化硅抛光液行业研究及十五五规划分析报告》显示，随着半导体行业快速发展，碳化硅抛光液市场规模也在逐渐扩大。预计2031年全球碳化硅抛光液市场规模将达到19亿元，2025-2031年期间其市场将以20%年复合增长率（CAGR）增长。
随着研究逐渐深入，我国碳化硅抛光液制备工艺在不断改进，相关专利数量也在增长，2020年来包括“纳米氧化铝磨粒、制备方法、应用和含该磨粒的碳化硅抛光液”、“一种碳化硅抛光液及其应用”、“一种碳化硅CMP精抛抛光液及其制备方法”、“一种碳化硅晶圆抛光液”等。
国外碳化硅抛光液生产企业包括CMC Materials、Saint-Gobain、Fujimi Corporation等。我国碳化硅抛光液生产企业包括上海新安纳电子科技有限公司、宁波日晟新材料有限公司、北京国瑞升科技股份有限公司等。
宁波日晟新材料有限公司“碳化硅抛光液”，入选《2025年度浙江省拟认定首批次新材料清单》。上海新安纳电子科技有限公司“碳化硅晶圆抛光液系列产品”，可应用于不同尺寸高纯半绝缘体4H-SiC、N型4H-SiC等晶圆抛光。
新思界
行业分析人士表示，受益于企业和相关科研机构研发持续深入，我国碳化硅抛光液行业生产水平不断提升。随着半导体行业快速发展，碳化硅抛光液市场需求空间较为广阔。我国已有少数企业具备碳化硅抛光液研发、量产实力，受此利好，碳化硅抛光液行业发展进程进一步加快。
关键字：
