电子级三(二甲氨基)硅烷（TDMAS）主要用作有机硅源与前驱体材料 布局企业不断增多

　　三(二甲氨基)硅烷，别名三(二甲胺基)硅烷，英文简称TDMAS，分子式为C6H19N3Si，分子量为161.321，外观为无色液体状，有毒性，密度0.838g/ml，沸点142℃，熔点-90℃，闪点25℃，易燃烧，存储需密封并远离火种、热源。三(二甲氨基)硅烷主要应用在电子产业中，即电子级三(二甲氨基)硅烷。

 

　　根据新思界产业研究中心发布的《2025年中国电子级三（二甲氨基）硅烷（TDMAS）市场专项调研及企业“十五五规划”建议报告》显示，电子级三(二甲氨基)硅烷通常用作有机硅源、前驱体材料。电子级三(二甲氨基)硅烷具有良好的熔点与蒸气压范围，且挥发性高、热稳定性好、反应性高，可以利用原子层沉积（ALD）、化学气相沉积（CVD）工艺来制备二氧化硅（SiO2）薄膜、氮化硅（Si3N4）薄膜，进而应用在半导体、锂离子电池、太阳能电池、燃料电池等生产中。

 

　　在半导体领域，电子级三(二甲氨基)硅烷可用来制备栅极侧墙隔离层、刻蚀停止层、扩散阻挡层、钝化层等；在锂离子电池中，电子级三(二甲氨基)硅烷可用来制备电极材料表面的超薄保护层、硅增强隔膜；在太阳能电池中，电子级三(二甲氨基)硅烷可利用原子层沉积法将二氧化硅、氮化硅沉积到二氧化钛（TiO2）阳极或硅基体之上，作为钝化层或者减反射膜；在燃料电池中，电子级三(二甲氨基)硅烷可用来制备电解质薄膜或保护层。

 

　　三(二甲氨基)硅烷的制备方法可以采用直接胺解法，以三氯硅烷、二甲胺为原料，在低温条件下通过亲和取代反应得到，具有工艺流程简单、原料成本较低、适合规模化生产等优点，但反应条件控制要求高、副产物产生量大。电子级三(二甲氨基)硅烷制备可以高纯度三氯硅烷、无水二甲胺为原料，严格控制反应条件，再经纯化得到。

 

　　新思界行业分析人士表示，近年来，我国电子级三(二甲氨基)硅烷布局企业不断增多。2025年8月，太和气体（荆州）有限公司“高端电子化学品材料项目”环境影响报告书受理公告，项目总投资50000万元，建设内容中包括产能20吨/年的电子级三(二甲氨基)硅烷生产线，产品纯度99.999%。

 

　　2022年2月，洛阳中硅高科技有限公司、中国恩菲工程技术有限公司授权公告了“电子级三（二甲氨基）硅烷的合成装置”专利，该专利装置改变了反应原料种类和加料方式，并降低了反应温度的波动性以及工艺成本。2023年1月，贵州威顿晶磷电子材料股份有限公司申请了“一种电子级三-二甲氨基-硅烷的制造装置及制造方法”专利，该发明生产过程环保、原料种类简单、产物纯度高。

 

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