高纯铜靶材，指以高纯度铜为原材料，在溅射过程中作为高速金属等离子体流轰击目标的靶材。高纯铜靶材需具备杂质含量低、加工性能好、耐腐蚀、抗氧化、导电性佳、导热性好等特点，主要应用于航空航天、电子电气、光伏等众多领域。
近年来，国家及地方政府对于高纯铜靶材行业发展高度重视，已出台多项相关政策，主要包括《标准提升引领原材料工业优化升级行动方案（2025-2027年）》、《河南省重点新材料首批次应用示范指导目录（2025版）》、《山东省重点新材料首批次应用示范指导目录（2024年版）》等。未来随着政策支持，我国高纯铜靶材行业发展速度有望加快。
高纯度铜为高纯铜靶材主要原材料。高纯度铜，指纯度达到99.9999%（6N）及以上的金属铜，具备抗干扰能力强、抗疲劳性强、工作温度范围宽等优势，在众多领域拥有巨大应用潜力。高纯度铜制备方法众多，主要包括真空熔炼法、电解精炼法、区域熔炼法等。目前，受技术壁垒高、生产成本高等因素限制，我国高纯度铜产量较低，这将为高纯铜靶材行业发展带来一定挑战。
根据新思界产业研究中心发布的《
2025年中国高纯铜靶材市场专项调研及企业“十五五规划”建议报告》显示，高纯铜靶材在众多领域需求旺盛。在电子电气领域，高纯铜靶材可用于集成电路制造、显示面板制造过程中。在光伏领域，高纯铜靶材可用于钙钛矿太阳能电池以及CIGS（铜铟镓硒）薄膜太阳能电池制备过程中，能有效提升电池的光电转换效率以及运行稳定性。随着全球半导体及显示面板产业逐渐向我国大陆转移以及光伏发电行业景气度提升，我国高纯铜靶材市场空间进一步扩展。2024年我国高纯铜靶材市场规模同比增长超过5%。
我国高纯铜靶材主要生产企业包括欧莱新材、江丰电子、嘉元科技、博威合金、有研新材、国玺超纯等。欧莱新材专注于高性能溅射靶材的研发、生产及销售，其TFT高纯铜靶材于2023年被认定为“广东省名优高新技术产品”。
新思界
行业分析人士表示，高纯铜靶材作为一种高性能溅射靶材，用途广泛。未来随着下游行业发展速度加快，高纯铜靶材市场规模将进一步增长。受益于政策支持以及技术进步，我国高纯铜靶材生产企业数量不断增加。预计未来一段时间，具备高品质高纯铜靶材自主研发及生产实力的企业将占据我国市场更大空间。
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