三氟化氮（NF3）是一种含氟特种气体，也是目前电子特气中用量最大的品种之一，具有常温下化学惰性、高温下性质活泼、易于处理、反应速度快等特点。
三氟化氮可以用作等离子蚀刻气体、反应腔清洗剂、高能化学激光器的氟源等，适用于半导体芯片、显示面板、光纤、太阳能电池、金属加工等领域。作为等离子蚀刻气体，三氟化氮尤其适用于厚度小于1.5um集成电路材料的蚀刻。随着电子工业大规模发展，三氟化氮市场需求将不断增加。
三氟化氮工业化生产路线主要有化学合成法、电解法两种，其中化学合成法具有设备复杂、杂质含量多、安全性高等特点，电解法主要是电解熔融NH4F·xHF，具有成品收率高、技术成熟度高、容易污染环境等特点。
根据新思界产业研究中心发布的
《2025-2029年三氟化氮（NF3）行业深度市场调研及投资策略建议报告》显示，作为半导体制造中用量最大的电子特气，三氟化氮市场呈全球化竞争态势，在国际市场上，三氟化氮主要生产厂商包括韩国SK Specialty、韩国晓星、日本关东电化、德国默克、日本三井化学等，国外企业以电解法为主，其中韩国SK Specialty是全球最大的三氟化氮供应商，年产能达1.3万吨以上。
我国涉及三氟化氮业务的企业包括中船特气、南大光电、昊华科技、广钢气体、凯美特气等。国产三氟化氮在技术纯度方面与进口产品尚存在一定差距，其中中船特气三氟化氮、六氟化钨生产能力位居国内首位，三氟化氮产品纯度可达5N级（99.999%）。
目前全球高纯度三氟化氮尚存在供给缺口，尤其是5N-6N级三氟化氮。2025年8月，日本关东电化涩川工厂发生爆炸，短期内三氟化氮产能将无法恢复生产，日本三井化学三氟化氮产能计划于2026年退出市场。日本关东电化产能受限+日本三井化学退出，将进一步加大高纯度三氟化氮供给缺口。
目前国内多家三氟化氮企业有扩产计划，如中船特气计划在2026年新增3000吨产能，贵州泉鑫化学科技有限公司年产3880吨电子特气建设项目于2025年7月份开工，建成后年产三氟化氮3200吨。
新思界
行业分析人士表示，三氟化氮是半导体制造中用量最大的电子特气，市场需求旺盛。近年来，受益于国家政策支持、技术进步，我国企业在高纯度三氟化氮领域持续突破，目前我国企业已具备三氟化氮供给缺口填补能力，随着产能扩张、客户认证持续推进，国产三氟化氮有望加速切入全球供应链。
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