空白掩模版又称光罩基板、掩膜基板，是制造掩膜版（光罩）的初始材料，也是光刻工艺中的图形转移载体，直接影响光刻精度及产品良率。
空白掩模版是在树脂或超纯石英玻璃等基底材料上通过精密抛光、镀膜和匀胶后的产品。根据国家统计局数据显示，2025年上半年，我国集成电路产量为2395亿块，同比增长8.7%。掩膜版是半导体芯片行业中第三大半导体晶圆制造材料，随着集成电路产量稳步增长，掩膜版市场规模持续扩大，空白掩模版位于掩膜版产业链上游，市场需求随之释放。
根据新思界产业研究中心发布的
《2025年中国空白掩模版市场专项调研及企业“十五五规划”建议报告》显示，2024年全球空白掩模版市场规模超过35.0亿美元，我国空白掩膜版市场需求规模约14.5亿美元。近年来，在国产替代背景下，我国掩膜版国产化率正逐步提升，但在空白掩膜版上，目前国产化率仍较低。
全球范围内，空白掩膜版供应商主要集中在日本、韩国、中国台湾等地区，包括日本信越化学、韩国KTG、日本豪雅（HOYA）等。我国所需空白掩模版进口依赖度高，尤其是中高端空白掩模版，如EUV空白掩膜版。
我国空白掩模版相关企业包括成都中科卓尔智能科技集团有限公司、安徽禾臣新材料有限公司等。中科卓尔由中科院光电所团队组建，其空白掩模版已通过路维光电、龙图光罩和国内多家下游企业验证；禾臣新材料致力于G6尺寸及以下空白掩膜版的研发与生产，G6代产品已获得清溢光电、路维光电等客户的认可并批量导入。
近年来，由于EUV（极紫外）光刻机采购量、应用量增长，EUV掩模版占比正快速提升，进而带动了EUV空白掩膜版市场需求释放。EUV空白掩膜版为反射型设计，在玻璃基板上交替沉积数层钼（Mo）和硅（Si）制成，与传统深紫外（DUV）空白掩膜版（透射型）在结构、原理上存在较大差异。
EUV空白掩膜版售价高，目前三星电子的EUV空白掩膜大部分依赖从日本HOYO进口。韩国S&STech的EUV空白掩膜版国产化工作已取得重大突破，为保障供应链安全，三星电子正优先推进通过韩国S&STech实现EUV空白掩膜版国产化供应。
新思界
行业分析人士表示，空白掩模版位于掩模版产业链上游，我国半导体产业起步较晚、基础薄弱，目前空白掩模版的开发和量产应用仍面临着制约因素，包括核心设备供应、先进工艺开发等多个方面。近年来，我国掩模版国产化率逐渐提升，EUV掩模版已进入量产阶段，EUV空白掩膜版市场需求将大幅增长。
关键字：
