镍铂合金，以金属镍（Ni）、金属铂（Pt）为主要合金元素，成分中还会含有镁、铝、碳等杂质元素，具有耐高温、抗氧化、耐腐蚀等特点。镍铂靶材，是以高纯镍铂合金为材料制造而成的用于溅射镀膜领域的溅射源。通过调整镍铂靶材中的镍、铂含量比例，可以获得低电阻率、高抗氧化性的靶材。
镍铂靶材纯度在99.99%（4N）及以上，通常采用真空熔炼法进行制备，包括真空感应熔炼法、真空电子熔炼法两种。镍铂靶材制备工艺流程是，以高纯镍、高纯铂为原料，通过真空熔炼工艺制备得到合金铸锭，再经塑性加工、热处理、机械加工等工序获得靶材。纯度、致密度、组织均匀性、晶粒尺寸、晶粒取向等均会影响镍铂靶材性能，进而影响镀膜质量。因此镍铂靶材制备对生产企业的技术工艺控制要求高。
根据新思界产业研究中心发布的
《2025-2030年中国镍铂靶材行业市场深度调研及发展前景预测报告》显示，镍铂靶材可以应用在电子、光学等领域。在电子领域，镍铂靶材主要用于半导体、集成电路制造中，例如用来制造二极管、超大规模集成电路、高频射频芯片、电源管理芯片、MEMS器件等。在超大规模集成电路中，镍铂靶材的纯度、尺寸存在一定要求，通常采用99.995%纯度、12英寸直径的镍铂靶材，用于集成电路栅极、源极/漏极区接触层制备方面。
在我国，代表性镍铂靶材研制厂商主要是贵研铂业股份有限公司、有研亿金新材料有限公司等。2018年，由贵研铂业承担的云南省国际合作计划专项“半导体器件用镍铂靶材的制备关键技术及产业化”取得重大突破，建成了年产1000片镍铂靶材料的示范生产线。有研亿金新材料有限公司开发出65-28nm特征尺寸大规模集成电路用12英寸高纯镍铂靶材，产品纯度4N5，氧含量≤100ppm，晶粒尺寸≤100μm，焊合率≥97%。
我国其他镍铂靶材相关布局企业还有：2024年12月，宁波江丰电子材料股份有限公司公开了一项名为“一种再生镍铂合金靶材及其制备方法”的专利；2025年5月，先导薄膜材料（江苏）有限公司公开了一项名为“一种镍铂合金靶材及其制备方法”的专利等。
新思界
行业分析人士表示，2014年，我国（YS/T 937-2013）《镍铂靶材》行业标准实施，之后不断完善，2021年启动制定杂质元素检测标准，2024年新增碳含量测定标准。目前，我国镍铂靶材分析标准包含铂含量测定、杂质元素检测、碳含量测定三个部分。
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