六氯乙硅烷简称HCDS，按纯度可以分为：高纯度级别和普通纯度级别。普通纯度级六氯乙硅烷的纯度在95%-98%，主要用于工业生产或者提纯。高纯六氯乙硅烷的纯度>99%，作为化学气相淀积（CVD）、原子层沉积（ALD）的前驱体用于半导体领域，亦可作为前驱体用于太阳能领域，在光纤、航空航天领域也有应用。
高纯六氯乙硅烷具有稳定的性能和低挥发性，主要作为前驱体材料用于半导体领域氧化硅薄膜、氮化硅薄膜等的沉积环节，在半导体、光电材料等领域有着广泛的应用前景。近几年，受益于半导体产业加速向中国大陆转移，中国大陆作为全球最大半导体终端产品消费市场，中国半导体产业的规模不断扩大，高纯六氯乙硅烷市场景气度上升，需求增速处于较高水平。根据新思界产业研究中心发布的
《2024-2028年中国高纯六氯乙硅烷行业市场深度调研及发展前景报告》，2023年前三季度，我国高纯六氯乙硅烷需求量为39.1吨，增长率为15.3%。
高纯六氯乙硅烷行业具备较高的技术、市场、资金、人才等方面的壁垒，尤其是在技术、市场方面，潜在高纯六氯乙硅烷企业面临诸多技术难题和市场开发困境，再加上进口品牌的竞争压力，导致我国高纯六氯乙硅烷行业内企业数量较少，目前已经放量生产的企业有洛阳中硅高科技有限公司、江苏南大光电材料股份有限公司、武汉新硅科技潜江有限公司、贵州威顿晶磷电子材料股份有限公司，行业集中度很高。
基于近几年良好的市场情况，我国相继有企业进入或正在布局高纯六氯乙硅烷行业，行业投资规模不断扩大。例如，金宏气体股份有限公司正在建设高端电子专用材料项目，包含六氯乙硅烷50吨；江西华特电子化学品有限公司年产1764吨半导体材料、1555吨硅基前驱体等项目已通过审批，项目规划中包括80t/a六氯乙硅烷；内蒙古兴洋科技股份有限公司高纯六氯乙硅烷产品正处于实验室阶段。
《重点新材料首批次应用示范指导目录（2024年版）》（征求意见稿）在特种气体版块提到“高纯六氯乙硅烷，纯度>99.999%，A1≤2ppb，Fe≤2ppb，K≤1ppb，Ni≤2ppb，己烷≤0.03%”。总的来看，国家支持高纯六氯乙硅烷在半导体行业的发展，未来其发展前景广阔。随着国内集成电路领域高纯六氯乙硅烷产品和技术的日趋成熟，未来进口替代的步伐将进一步加快，具备进口替代能力的国内优势企业将迎来更好的发展机遇。
