光刻胶是利用光化学反应，经光刻工艺将所需要的微细图形从掩模版转移到待加工基片上的图形转移介质，被广泛应用于光电信息产业的微细图形线路的加工制作，是微细加工技术的关键性材料，是集成电路和平板显示两大产业光刻工艺的重要部分。按曝光波长不同，光刻胶又可以分为g线光刻胶、i线光刻胶、KrF光刻胶、ArF光刻胶和EUV光刻胶等。
从全球市场来看，自2010年以来，全球光刻胶市场始终保持着持续发展趋势。从2010年的58亿美元发展到2018年，全球光刻板市场规模已经达到了85亿美元，与上一年81亿美元的市场规模相比，增长了约4.9个百分点。未来随着市场需求的进一步扩大，全球光刻胶市场规模仍将得到持续增长，预测发展到2020年市场规模将达到90亿美元以上。
从中国市场来看，根据新思界产业研究中心发布的
《2019-2024年光刻胶行业市场深度调研及投资前景预测分析报告》显示，自2012年以来，我国光刻胶行业市场规模呈现出不断上升的发展趋势。从2012年的35亿元发展到2018年，我国光刻胶行业市场规模达到将近65亿元，与上一年60亿元的市场规模相比，增长了约8.3个百分点。可以看出，我国光刻胶市场正呈现出良好的发展势头。
从市场格局来看，由于生产光刻胶的所需技术水平相对较高，而国内本土企业所具备的技术尚不成熟，导致国内光刻胶企业所占市场份额相对较小，外资企业占据着市场的主导地位，市面上的光刻胶产品也大多出自于日本、美国以及韩国等企业。近年来，随着我国市场需求的不断增加和相关技术水平的逐渐提升，国内光刻胶产量有所增长。从2012年的4万吨发展到2018年，我国光刻胶产量达到8万吨以上，与上一年7.5万吨的产量相比，增长了约6.25个百分点，其中本土企业所产产品数量达到5.2万吨，与上一年4.5万吨的本土企业产量相比，增长了约15.5个百分点。从这些数据可以看出，我国本土企业生产能力已有很大提升，未来具有较大发展空间。
新思界
行业分析人士表示，随着经济的持续发展，国内集成电路市场需求的不断增加，光刻胶作为其光刻工艺的重要部分，市场也得到了快速增长。但目前国内光刻胶市场的整体技术水平与国际先进水平相比仍存在较大差距，产品多集中于技术含量相对较低的PCB领域，而在技术含量相对较高的领域上，我国本土企业仍有很大的发展空间。
