高能离子注入机，是半导体前道制造的核心工艺设备之一，主要用于通过离子注入改变材料的电性，具有束流能量高、束流传输效率高、能量范围大、能量纯度高等特点。
离子注入机是高压小型加速器中的一种，通过将所需掺杂的元素以带电离子的形式加速至预设能量，并将其注入到半导体材料中，进而实现材料电学特性的精准调控。根据离子能量范围不同，离子注入机分为低能大束流离子注入机、高能离子注入机和中束流离子注入机，其中高能离子注入机技术难度最大，经济附加值最高。
根据新思界产业研究中心发布的
《2026年中国高能离子注入机市场专项调研及企业“十五五规划”建议报告》显示，得益于半导体行业快速发展，离子注入机应用需求持续旺盛，市场规模不断扩大。2024年我国半导体离子注入机市场规模约为85亿元，2020-2024年期间年复合增长率CAGR约为17%。在此背景下，高能离子注入机作为离子注入机行业细分产品，我国市场具有显著发展空间。
经过多年发展，我国已初步实现低能大束流、中束流离子注入机的研制。但高能离子注入机技术壁垒极高，我国市场长期由国际巨头垄断，国产化率不到5%。在国家政策支持、本土企业和科研机构加大研发力度利好下，我国高能离子注入机行业不断取得创新突破。中国电科、上海凯世通、青岛思锐智能等是我国高能离子注入机市场主要参与者。
2020年6月，中国电科旗下电科装备自主研制的高能离子注入机成功实现百万电子伏特高能离子加速，性能达到国际先进水平。2023年9月，青岛思锐智能成功推出国内首台“8MeV高能离子注入机”，该设备整体技术达到国内领先、国际先进水平，打破了欧美企业长期垄断。2025年12月，青岛思锐智能完成数亿元C轮战略融资，本轮融资将用于原子层沉积（ALD）、离子注入（IMP）等半导体设备的研发与量产。
新思界
行业分析人士表示，随着半导体市场规模持续扩大，高能离子注入机作为重要掺杂工艺设备，市场需求释放空间较为广阔。受技术水平限制，我国高能离子注入机市场国产化率极低。在国家大力支持高端装备制造业发展，本土企业加快关键核心技术攻关，致力于创造更多具有自主知识产权的创新成果驱动下，我国高能离子注入机国产替代进程将加快。
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