步进扫描式光刻机，指集成了扫描投影光刻技术和分步重复光刻技术的光刻装备。步进扫描式光刻机具备可实现动态扫描、可实时聚焦调节、曝光场大等优势，主要应用于半导体制造工艺中。
步进扫描式光刻机通常由光源系统、精密运动与工件台系统、光学投影系统以及对准与调焦调平系统构成。光源系统主要采用深紫外（DUV）光源，能够提供曝光所需高能量光束；精密运动与工件台系统包含掩模台和硅片台，能够对晶圆进行测量和曝光；光学投影系统包含投影物镜以及照明设备，对于成像质量起到重要作用。
近年来，随着技术进步，我国步进扫描式光刻机组件市场参与者数量不断增长。国科精密光学、科益虹源光电、华卓精科、茂莱光学等为我国步进扫描式光刻机组件主要生产商。未来随着上游组件供应量增长，我国步进扫描式光刻机行业发展速度将有所加快。
根据新思界产业研究中心发布的《
2026-2031年步进扫描式光刻机行业市场深度调研及投资前景预测分析报告》显示，步进扫描式光刻机主要应用于半导体制造工艺中。近年来，随着全球半导体产业逐渐向我国大陆转移，我国芯片产能持续扩张，产量不断增长。据国家工信部统计数据显示，2025年1-10月，我国芯片产量达到3866亿块，同比增长10.2%。未来随着应用需求日益旺盛，步进扫描式光刻机行业发展将迎来机遇。
在行业发展初期，受技术壁垒高、生产成本高等因素限制，我国光刻机高度依赖进口。日本佳能株式会社（Canon）、日本尼康株式会社（Nikon）、荷兰阿斯麦公司（ASML）等为全球知名光刻机制造商。
在本土方面，近年来，受国际贸易形势影响，海外政府开始实行对华光刻机出口管制。在此背景下，我国光刻机市场国产化进程不断加快。步进扫描式光刻机为我国自主研发的高端光刻装备，上海微电子装备股份有限公司为其代表企业。据中国政府购买服务信息平台发布数据显示，2025年12月25日，上海微电子中标国家科技部“zycgr22011903采购步进扫描式光刻机项目”，成交金额为10999.985万元。
新思界
行业分析人士表示，作为一种高端光刻装备，步进扫描式光刻机应用前景较好。未来随着市场需求日益旺盛，我国步进扫描式光刻机行业发展空间将得到进一步扩展。目前，我国企业已具备步进扫描式光刻机自主研发及生产实力，未来其行业发展态势将持续向好。
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