按照技术原理不同，光刻设备主要包括直写光刻设备以及掩模光刻设备两种类型。直写光刻设备，又称无掩模光刻设备，指无需物理掩模版，采用逐点、逐线或逐面扫描曝光方式，将微图形结构转移到覆有感光材料基材表面的设备。直写光刻设备具备灵活性高、运行成本低、适应复杂工艺等优势，在印制电路板（PCB）、显示面板、集成电路、光伏电池以及掩模版加工过程中应用较多。
近年来，国家对于光刻设备行业发展高度重视，已出台多项相关政策，主要包括《制选业可靠性提升实施意见》、《首台（套）重大技术装备推广应用指导目录（2024年版）》、《关于推动未来产业创新发展的实施意见》等。未来随着国家政策支持，直写光刻设备作为光刻设备细分产品，行业发展速度有望加快。
直写光刻设备主要包括离子束直写光刻设备、电子束直写光刻设备以及激光直写光刻设备三种。离子束直写光刻设备集成了选择性沉积、物理刻蚀以及离子注入技术，在集成电路修复、微纳器件原型开发过程中应用较多；电子束直写光刻设备具备光刻分辨率高、运行成本低等优势，为直写光刻设备代表产品。
根据新思界产业研究中心发布的《
2025-2030年直写光刻设备行业市场深度调研及投资前景预测分析报告》显示，直写光刻设备适用于众多领域，主要包括印制电路板（PCB）、显示面板、集成电路、光伏电池以及掩模版等。随着全球半导体产业逐渐向我国大陆转移，我国集成电路产量持续增长。据国家工信部统计数据显示，2025年1-7月，我国集成电路产量达到2946亿块，同比增长10.4%。直写光刻设备适用于芯片封装环节，未来其市场需求将不断增长。
全球直写光刻设备市场主要参与者包括日本尼康公司（Nikon）、日本佳能公司（Canon）、荷兰ASML公司等。在本土方面，芯碁微装、苏大维格、天津芯硕、新诺科技等为我国直写光刻设备主要生产商。芯碁微装已具备多种类型直写光刻设备自主研发实力，占据我国乃至全球市场较大份额。
新思界
行业分析人士表示，直写光刻设备作为一种半导体制造关键设备，应用前景广阔，行业发展速度不断加快。未来随着技术进步以及市场需求持续增长，直写光刻设备行业发展空间将得到进一步扩展。目前，我国已有多家企业布局直写光刻设备行业研发及生产赛道，未来其市场国产化进程有望加快。
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