EUV高端光刻机是一种集新材料、精密制造、物理学等科技的成果，其技术的突破不仅对于核心部件（物镜、光源、浸没式系统）等要求较高，且对于配套设施（光刻胶、光刻气、光罩、涂胶显影设备）等也有着一定要求，因此生产技术门槛较高，生产企业较少，市场处于垄断局面。
当前，全球光刻机市场主要被ASML、Canon、Nikon三家企业瓜分，在EUV光刻机领域更是被ASML垄断，ASML的EUV光刻机年产量约为50台。阿斯麦是全球第一家EUV光刻机生产企业，其在美国牵头的《瓦森纳协定》影响下，长期对于中国禁售高端光刻设备及关键部件。由于EUV光刻机的关键部件进口受限，因此我国EUV光刻机与世界水平差距较大，未来国产化空间较广。
根据新思界产业研究中心发布的
《2020-2025年中国EUV光刻机行业应用市场需求及开拓机会研究报告》显示，光刻机产品种类较多，主要有EUV、ArFi、ArF dry、KrF、I-Line五大类，在2019年全球光刻机市场规模达到110亿元，其中ArFi销售占比较高，约为55%左右，而EUV位列第二，占比为30%。随着集成电路逐渐高端化发展，中芯国际、台积电、三星等企业对于7nm制程需求旺盛，则EUV光刻机市场需求持续攀升，行业得到快速发展。
我国上海微电子研制的光刻机为90nm，与世界先进技术差距较大，但也初步形成了完整的产业链，预计未来几年，关于关于光刻机的研发不断取得突破，在2021年实现28nm光刻机生产，目前在光刻机领域布局研究的企业有国科精密、科益虹源、启尔机电、华卓精科、福晶科技等。但由于EUV光刻机的研发难度更大，国内尚未在该领域实现突破。
ASML作为EUV光刻机生产企业，在2019年第四季度实现收入，40.4亿欧元，环比增长了35%左右，同比增长39%，全年累计实现收入118亿欧元，创历史新高。在全球半导体设备行业下行的背景下，ASML依靠其独有的高端产品，不断优化升级，实现营收增长。
新思界
产业分析人士表示，在中美关系紧张、5G商业化AI、无人驾驶、人工智能对于芯片要求不断提升的背景下，EUV光刻机作为芯片生产的核心部件，成为国内研发的重点。虽然，EUV光刻机行业发展前景较好，但由于EUV光刻机技术含量高，研发难度较大，国内尚未实现突破，限制了我国芯片产业发展。
